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光子晶体led入主液晶电视背光

合红、绿和蓝三色led发出的光,也可利用蓝光led和黄光荧光粉来实现。两种选择都需要基于GaN的蓝光led,所有不同类型的这种器件都有一个共同的缺点:大部分的光被束缚在有源区内,不

  http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120518.html2010/12/13 22:51:00

GaN材料的特性及其应用

n具有高的电离度,在ⅲ—ⅴ族化合物中是最高的(0.5或0.43)。在大气压力下,GaN晶体一般是六方纤锌矿结构。它在一个无胞中有4个原子,原子体积大约为gaas的一半。因为其硬度

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/18/230091.html2011/7/18 23:39:00

高效率光子晶体发光二级管led

石制程,发光芯片(inGaN)与硅、铜、氮化镓(GaN)、钼、碳化硅(sic)热沉芯片贴合,其特征在于,将发光芯片的透明电极(ito、ruo2、zno及nio)表面做成光子晶体(周期

  http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/9/126776.html2011/1/9 21:14:00

GaN外延片的主要生长方法

面发生反应,外延生长化合物晶体薄膜。mocvd具有以下优点:用来生长化合物晶体的各组份和掺杂剂都可以以气态方式通入反应室中,可以通过控制各种气体的流量来控制外延层的组分,导电类

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229933.html2011/7/17 23:23:00

硅衬底上GaN基led的研制进展

行探索。由于GaN材料的电荧光对晶体缺陷并不敏感,因此人们预期在si衬底上异质外延生长ⅲ族氮化物发光器件在降低成本方面具有明显的技术优势。   人们还期待使用si衬底今后还有可能

  http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/12/126998.html2011/1/12 0:46:00

基于si衬底的功率型GaN基led制造技术

膜出现龟裂,晶格常数差会在GaN外延层中造成高的位错密度;另外si衬底led还可能因为si与GaN之间有0.5v的异质势垒而使开启电压升高以及晶体完整性差造成p型掺杂效率低,导致串

  http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/12/127090.html2011/1/12 17:23:00

pyro 400在线测量GaN温度

laytec于11月前推出最新的产品pyro 400。传统的红外高温测量法只能监测到蓝宝石或sic晶片下面的基座表面温度,与之不同的是,pyro 400是一种真正能精确测量GaN

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/18/230115.html2011/7/18 23:52:00

利用电阻和晶体管来同步闪烁led

器件(见图)代替标准led。闪烁led被用来设置 “被控”标准led闪烁的频率。当闪烁led导通时,晶体管通过47欧姆电阻感应通过它的电流。然后,晶体管的集电极电流驱动标准le

  http://blog.alighting.cn/wasabi1988/archive/2011/2/19/133792.html2011/2/19 22:52:00

si衬底GaN基材料及器件的研究

于光电子和微电子器件领域。si衬底GaN基材料及器件的研制将进一步促进GaN基器件与传统器件工艺的集成,因而具有很高的研究价值。介绍了si衬底GaN基材料生长及特性方面的研究现

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/20/230350.html2011/7/20 0:22:00

GaN led用sapphire基板介紹

量以光的形式激發釋出。自從1960年代利用gaasp液相外延技術生產出第一顆實用的紅光發光二極體,直到1993年日本日亞化學公司發展出氮化鎵(GaN)發光二極體,突破藍光發光二極體

  http://blog.alighting.cn/wenlinroom/archive/2010/5/27/46232.html2010/5/27 0:09:00

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