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生长温度对si衬底zno薄膜结构的影响

通过脉冲激光沉积方法在1.3pa氧氛围,100-500℃衬底温度,si(111)衬底上成功地制备了zno薄膜,我们用x射线衍射(xrd)谱,原子力显微镜(afm),透射电镜(te

  https://www.alighting.cn/resource/20130515/125605.htm2013/5/15 11:28:09

led原料技术之有机发光材料的选用

oled,即有机发光二极管(organic light-emitting diode),又称为有机电激光显示(organic electroluminesence displa

  https://www.alighting.cn/resource/20130222/126023.htm2013/2/22 11:31:57

sio2/si衬底制备zno薄膜及表征

本文报道了利用脉冲激光沉积技术在热氧化p型硅衬底上生长zno外延薄膜。引入高阻非晶sio2缓冲层,有效地降低了检测过程中单晶衬底对zno薄膜的电学性能影响。利用xrd,se

  https://www.alighting.cn/2011/10/17 14:30:47

movpe生长1.3μm无致冷algainas/inp应变补偿量子阱激光器研究

激光

  https://www.alighting.cn/2011/10/8 12:00:18

2009lasik术后夜间视觉质量与角膜非球面性关系的研究

准分子激光原位角膜磨镶术(lasik)术后夜间视觉质量的降低越来越引起人们的重视,由于lasik手术后角膜前表面非球面性发生较大变化,这种改变对患者术后暗视觉下对比敏感度的影响如

  https://www.alighting.cn/resource/20091221/V1043.htm2009/12/21 15:38:14

提高led外量子效率的研究进展

色照明光源普遍推广应用的一个绊脚石。文章简述了提高外量子效率的几种有效途径,如表面微粗化技术、芯片非极性面/半极性面生长技术、倒装芯片技术、生长分布布喇格反射层(dbr)结构、激

  https://www.alighting.cn/resource/20121120/126288.htm2012/11/20 18:12:22

退火温度及退火气氛对zno薄膜的结构及发光性能的影响(英文)

采用脉冲激光沉积技术在si/蓝宝石衬底上制备了zno薄膜,结合快速退火设备研究了不同退火温度(500~900℃)及退火气氛(n2,o2)对薄膜的结构及其发光性能的影响。并优化条

  https://www.alighting.cn/2013/5/28 11:06:49

氧分压对pld制备zno薄膜结构和发光性质的影响

采用脉冲激光沉积(pld)技术,在si(100)衬底上制备出高度c轴取向的zno薄膜。通过x射线衍射(xrd)谱,扫描电镜(sem)和室温光致发光(pl)光谱的测量,研究了生长气

  https://www.alighting.cn/2013/5/7 11:24:11

led光源数字全息技术研究

用led的时间相干性较差、相干长度短的特点,抑制相干噪声,改善数字全息重建质量。在同一全息记录系统,通过实验,比较了用激光和led光源的数字全息重建图像质

  https://www.alighting.cn/resource/20110920/127111.htm2011/9/20 13:35:45

pld制备zno薄膜及非晶纳米棒的结构与性质研究

利用光谱椭偏仪,系统研究了用脉冲激光沉积(pld)方法在si(100)基片上,温度分别为400℃,500℃,600℃和700℃制备的zno薄膜的光学特性。利用三层cauchy散

  https://www.alighting.cn/2011/10/20 13:44:44

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