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日前，MicroTech公司开发了一种用于制备蓝宝石图形衬底的湿法处理工作站，采用pecvd在蓝宝石晶片上沉积一层图形sio2掩膜，光刻曝光要刻蚀的图形，然后把晶片浸入装有刻蚀
https://www.alighting.cn/pingce/20111207/122715.htm2011/12/7 15:49:08
