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gan外延片中载流子浓度的纵向分布

采用适合宽禁带半导体材料的电化学电容电压(ecv)分析仪,对掺硅gan外延片用硫酸逐层进行了精密腐蚀后,在此础上得到了在进口mocvd设备上生产的gan外延片的载流子浓度纵

  https://www.alighting.cn/resource/20131029/125182.htm2013/10/29 10:01:55

硅衬底ganledn极性n型欧姆接触研究

在si衬底gan垂直结构led的n极性n型面上,利用电子束蒸发的方法制作了ti/al电极,通过了i-v曲线研究了有无aln缓冲层对这种芯片欧姆接触的影响。

  https://www.alighting.cn/2013/9/30 11:37:32

牺牲ni退火对硅衬底gan发光二极管p型接触影响

本文系统研究了ni覆盖层厚度及退火温度对硅衬底ganled薄膜p型欧姆接触的影响,在不需二次退火的情况下获得了高性能的p型欧姆接触层。

  https://www.alighting.cn/resource/2013/9/3/175434_16.htm2013/9/3 17:54:34

led半导体照明外延及芯片技术的最新进展

自上世纪90年代初中村修二发明高亮度蓝光led以来,于gan蓝光led和黄色荧光粉组合发出白光方式的半导体照明技术在世界范围内得到了广泛关注和快速发展。迄今为止,商品化白

  https://www.alighting.cn/resource/20130830/125359.htm2013/8/30 17:48:20

于truec2专利技术的高性能led射灯方案

本文将讨论这种控制策略实现恒流的原理,分析这种开控制策略的优缺点,和应用这种控制策略需要做的外围补偿,同时于占空比半导体公司新产品du2401芯片,介绍这种全新的闭电流控

  https://www.alighting.cn/resource/20130830/125362.htm2013/8/30 14:30:24

牺牲ni退火对硅衬底gan发光二极管p型接触影响的研究

本文通过在硅衬底发光二极管(led)薄膜p-gan表面蒸发不同厚度的ni覆盖层,将其在n2:o2=4:1的气氛中、400℃—750℃的温度范围内进行退火,在去掉薄膜表面ni覆盖层之

  https://www.alighting.cn/2013/8/28 14:38:01

gan led及光萃取技术实现高性价比照明

传统的氮化镓(gan)led元件通常以蓝宝石或碳化硅(sic)为衬底,因为这两种材料与gan的晶格匹配度较好,衬底常用尺寸为2"或4"。业界一直在致力于用供应更为丰富的硅晶圆(6"

  https://www.alighting.cn/resource/20130823/125384.htm2013/8/23 13:58:42

led驱动特点及未来发展

物联网中的重要一

  https://www.alighting.cn/2013/8/22 10:58:58

新型通孔硅衬底ganled结构的电流扩展分析

为了降低si衬底ganled的开启电压及工作电压,本文提出了一种新型通孔结构发光二级管,并提出一种电路有限元模型,分析此结构发光二极管的注入电流在有源区内的分布情况。

  https://www.alighting.cn/2013/8/20 13:57:10

【特约】刘雪云:景观照明工程实施的效果保障措施

8月17日,阿拉丁论坛·全国照明设计师沙龙在武汉举办。附件是深圳金照明实业有限公司供应中心总监刘雪云《浅谈景观照明工程实施的效果保障措施及产品的选择应用》的演讲内容,欢迎下载学习!

  https://www.alighting.cn/resource/2013/8/19/11560_14.htm2013/8/19 11:56:00

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