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led晶圆技术的未来发展趋势

圆均匀性不够。发展趋势是 两个方向:一是开发可一次在反应室中装入更多个晶圆生长,更加适合于规模化生产的技术,以降低成本;另外一个方向是高度自动化的可重复性的单片设备。2.氢化物

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229928.html2011/7/17 23:20:00

led灯的光效提升 散热器形成“烟囱式”

最新实验报告,用100w的集成模块对比,用纯铜片的模块在芯片温度高到75摄氏度时,用金刚石-铜复合片的模块芯片温度只有65摄氏度。然而铜的热膨胀系数(19左右)比蓝宝石的热膨

  http://blog.alighting.cn/chlhzm/archive/2012/2/22/264686.html2012/2/22 15:55:11

led行业淡季不减 终端品牌战如何打?

别是led上游领域,蓝宝石、外延芯片、芯片等项目规划投资金额巨大。但两年里疯狂投资产生了严峻的负面效应,结果是led产业结构性产能过剩,产品同质化严重,价格战的烽火燃遍全国,le

  https://www.alighting.cn/news/2014312/n643960585.htm2014/3/12 10:05:52

mocvd外延al_2o_3基algan/gan超晶格的结构和光学特性

3)上生长的algan/gan超晶格材料的微观结构、光吸收性质和发光特性。x射线衍射结果表明,gan基材料均为纤锌矿六方结构,薄膜具有良好的结晶质量,薄膜生长沿c轴择优取

  https://www.alighting.cn/resource/20130423/125683.htm2013/4/23 10:59:17

mocvd法生长ga、p掺杂的zno薄膜

采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石上制备ga、p掺杂的zno薄膜,分别采用x射线衍射、扫描电子显微镜、霍尔效应测试、光致发光谱对样品进行表征。通过ga、p掺杂分别得到n、p

  https://www.alighting.cn/2013/4/19 13:20:29

低压mocvd生长参量对ⅱ型inas gasb超晶格材料表面形貌的影响

采用自制低压金属有机源化学气相沉积设备,在(100)面gasb单晶上生长了ⅱ型inas/gasb超晶格材料.利用双晶x射线衍射、光学显微镜、原子力显微镜和光致发光谱等分析手段

  https://www.alighting.cn/resource/20130418/125702.htm2013/4/18 14:00:59

大功率led热阻测量研究

容参数, 结合理论计算得到的各组样品热阻、热容参数, 试图将拟合值同实际封装结构中芯片和固晶界面的热阻、热容进行匹配. 最后测量了工作条件下结温和焊点温度, 计算出器件热阻,并

  https://www.alighting.cn/2012/3/12 13:13:30

si基zno/ga_2o_3氨化反应制备gan薄膜

利用射频磁控溅射法在si(111)上先溅射zno缓冲层,接着溅射ga_2o_3薄膜,然后zno/ga_2o_3膜在开管炉中850℃常压下通氨气进行氨化,反应自组装生成gan薄

  https://www.alighting.cn/resource/20111025/126963.htm2011/10/25 14:55:29

pld方法制备的zno纳米柱结构及光学特性

采用无催化脉冲激光沉积(pld)方法,在inp(100)上生长纳米zno柱状结构。采用扫描电子显微镜(sem)、x射线衍射(xrd)以及光致发光(pl)谱等表征手段对zno纳

  https://www.alighting.cn/resource/20111018/127005.htm2011/10/18 14:57:08

lp-mocvd生长ingan及ingan/gan量子阱的研究

利用mocvd系统在al2o3上生长ingan材料和ingan/gan量子阱结构材料。研究发现,ingan材料中in组份几乎不受tmg与tmi的流量比的影响,而只与生长温度有

  https://www.alighting.cn/resource/20111018/127009.htm2011/10/18 14:04:18

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