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na-mg共掺杂zno薄膜的结构和光学性质

利用溶胶-凝胶法,在普通载玻片上使用旋转涂膜技术制备了具有c轴择优取向生长的na-mg共掺杂的zno薄膜。用xrd、sem、光致发光(pl)及透射光谱对薄膜样品进行了表征。

  https://www.alighting.cn/resource/20111018/127006.htm2011/10/18 14:46:03

氧气压强对pld制备mgzno薄膜光学性质的影响

使用准分子脉冲激光沉积(pld)方法在si(100)基片上制备了高度c轴取向的mgzno薄膜。分别使用sem、xrd、xps、pl谱和吸收谱表征了薄膜的形貌、结构、成分和光学性

  https://www.alighting.cn/2013/5/23 10:57:11

“有机EL的亮度不均已彻底解决” 柯达开发误差补偿新技术

日企 — 柯达开发出使主动矩阵驱动有机EL面板多年以来的课题 — tft开态电流误差引起的亮度不均“得到了彻底解决”的补偿技术,并在“sid 2007”上进行了发表。

  https://www.alighting.cn/resource/20070530/128504.htm2007/5/30 0:00:00

si衬底gan基led外延薄膜转移至金属基板的应力变化

采用电镀金属基板及湿法腐蚀衬底的方法将硅衬底上外延生长的ganmqwled薄膜转移至不同结构的金属基板,通过高分辨x射线衍射(hrxrd)和光致发光(pl)研究了转移的gan薄

  https://www.alighting.cn/resource/20111025/126968.htm2011/10/25 13:48:12

sic缓冲层对si表面生长的zno薄膜结构和光电性能的改善

用脉冲激光沉积(pld)技术制备了zno/sic/si和zno/si薄膜并制成了紫外探测器。利用x射线衍射(xrd),光致发光(pl)谱,i-v曲线和光电响应谱对薄膜的结构和光

  https://www.alighting.cn/2011/10/17 14:14:12

生长温度对si衬底zno薄膜结构的影响

通过脉冲激光沉积方法在1.3pa氧氛围,100-500℃衬底温度,si(111)衬底上成功地制备了zno薄膜,我们用x射线衍射(xrd)谱,原子力显微镜(afm),透射电镜(te

  https://www.alighting.cn/resource/20130515/125605.htm2013/5/15 11:28:09

氮化铝薄膜改善led散热性能的研究

研究了氮化铝薄膜对 led 灯散热情况的影响,并与导热硅脂(ks609)涂层的散热效果进行了比较, 结果表明:导热涂层能加强 led 的散热,氮化铝薄膜散热效果优于导热硅脂;对红

  https://www.alighting.cn/resource/20130304/125968.htm2013/3/4 13:53:37

sio2/si衬底制备zno薄膜及表征

本文报道了利用脉冲激光沉积技术在热氧化p型硅衬底上生长zno外延薄膜。引入高阻非晶sio2缓冲层,有效地降低了检测过程中单晶衬底对zno薄膜的电学性能影响。利用xrd,se

  https://www.alighting.cn/2011/10/17 14:30:47

aln缓冲层厚度对脉冲激光沉积技术生长的gan薄膜性能的影响

采用高分辨x 射线衍射仪(hrxrd)和扫描电子显微镜(sem)对外延生长所得gan 薄膜的晶体质量和表面形貌进行了表征。

  https://www.alighting.cn/resource/20150305/123530.htm2015/3/5 10:13:17

“这就是未来的照明”,众日企公开新一代照明概念

绘的未来照明概念。下面介绍几个具体提

  https://www.alighting.cn/news/20150310/97030.htm2015/3/10 9:14:06

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