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刻的同仁应该都知道，现在r3t在德国muegge旗下。这个蚀刻机用的是纯化学的方式蚀刻，没有离子损伤，没有有机残留物，没有热冲击（仅依***反应能量进行）对金属(如镍, 镍/铁,
http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2012/3/15/268321.html2012/3/15 21:55:29
http://blog.alighting.cn/ciesawa/archive/2012/4/10/271191.html2012/4/10 21:03:06
http://blog.alighting.cn/ciesawa/archive/2012/4/10/271605.html2012/4/10 23:10:53
http://blog.alighting.cn/cngeiao/archive/2012/5/20/275227.html2012/5/20 20:36:11
http://blog.alighting.cn/asdfeddc/archive/2012/6/20/279584.html2012/6/20 23:08:40
用高新等离子技术，通过市电产生负高压端的碳纤维放电后产生自由电子，与空气中的氧分子结合生成负离子。通过电离空气，进而产生高浓度的氧离子，并巧妙地借助灯光辐射及波动效应作用，进一步激
http://blog.alighting.cn/sunnysky/archive/2013/1/21/308204.html2013/1/21 9:24:15
毒的cr3+，从而起到净化污水的作用；一些重金属离子如pt4+，hg2+，au3+等，在催化剂表面也能够捕获电子而发生还原沉淀反应，可回收污水的无机重金属离子。 189 580
http://blog.alighting.cn/weking1/archive/2010/12/13/120312.html2010/12/13 10:35:00
掩模版 - 光刻 - 离子刻蚀 - n型电极（镀膜、退火、刻蚀） - p型电极（镀膜、退火、刻蚀） - 划片 - 芯片分检、分级 具体介绍如下： 固定：将单晶硅棒固定在加工台
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120508.html2010/12/13 22:43:00
或金属镍ni；然后利用黄光光刻和电感偶合式反应离子刻蚀机(icp-rie)使用反应离子化学刻蚀的方法将反应气体(如氯气、三氯化硼及甲烷等)选择性的刻蚀透明电极表面，达到使透明电极表
http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/9/126776.html2011/1/9 21:14:00
红外辐射：波长大于可见辐射的光辐射。辉光放电：阴极的二次发射远比热离子发射强得多的放电形式。
http://blog.alighting.cn/kinder/archive/2011/6/19/221918.html2011/6/19 14:45:00
