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光的角度，修正后的光比全反射的临界角还小，并可以进入临界角而投射到外面，从而大大改善之前传统led的全反射问题，大幅度提高了led的外部量子效率。第二种结构使用芯片贴合并去除蓝宝

http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/9/126776.html2011/1/9 21:14:00

于粉末涂装系统，尽管还有其他类型的干燥器，但由于使用效率和能力均不如上述两种干燥器，所以一般不采用。去除微粒和液态污染物是非常重要的，原因在于这些物质将会堵塞空气-空气热交换

http://blog.alighting.cn/suliaotuopan/archive/2010/12/27/123815.html2010/12/27 13:32:00

装耐高温元器件[/m]过焊回流焊、波峰焊、手侵锡炉[/m]后焊易融、易变形的元器件，后插装元件。[/m]测试基本功能测试；ok后流入下一工序[/m]装外壳此工序之前将工艺边去除并将毛

http://blog.alighting.cn/tangjunwen/archive/2010/12/24/123357.html2010/12/24 11:02:00

o2 和 h2o，并具有去除污染物、亲水性、自洁性等特性，性能持久，不产生二次污染。本品适合于各种空气污染治理的光触媒喷剂、纳米抗菌涂料、污水处理(可将造纸厂、印染厂、酒精

http://blog.alighting.cn/weking1/archive/2010/12/17/121595.html2010/12/17 9:36:00

物彻底分解成无害的co2 和 h2o，并具有去除污染物、亲水性、自洁性等特性，性能持久，不产生二次污染。本品适合于各种空气污染治理的光触媒喷剂、纳米抗菌涂料、污水处理(可将造纸厂

http://blog.alighting.cn/weking1/archive/2010/12/17/121594.html2010/12/17 9:33:00

n缓冲层→生长n型gan→生长ingan/gan多量子阱发光层→生长p型aigan层→生长p型gan层→键合带ag反光层并形成p型欧姆接触电极→剥离衬底并去除缓冲层→制作n型掺si

http://blog.alighting.cn/qq367010922/archive/2010/12/14/120857.html2010/12/14 21:43:00

题的关键是改善外延片均匀性。如果一片外延片波长分布在2nm之内，亮度的变化在+15%之内，则可以将这个片子上的所有芯片归为一档（bin），只要通过测试把不合格的芯片去除即可，将大大增

http://blog.alighting.cn/qq367010922/archive/2010/12/14/120858.html2010/12/14 21:43:00

度，达到一个抛光过程可以处理的规格。此过程产生废磨片剂。　　清洗：通过有机溶剂的溶解作用，结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质。此工序产生有机废气和废有机溶剂。　　 rca清

http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120508.html2010/12/13 22:43:00

4、是一种很强的光催化剂。在可见光照射下，分解有机物质和染料见效快，抗菌和除臭效果明显，可广泛用于环保涂料中。 5、本品属于浓缩型液体，可稀释，直接喷涂墙面、家具、地板，去

http://blog.alighting.cn/weking1/archive/2010/12/13/120333.html2010/12/13 10:41:00