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氧原子对GaN光电特性影响研究

GaN是优越的iii-v族直接带隙半导体材料,是iii-v族家族中最引人注目的半导体材料之一,其在光电领域有着极为重要的应用,已经引起了广泛的研究。GaNg基光电子器件的制备和工

  https://www.alighting.cn/2013/2/1 10:26:05

氧化对GaN基led透明电极接触特性的影响

研究了热退火对inGaN/GaN多量子阱led的ni/au p GaN欧姆接触的影响。发现在空气和n2气氛中交替地进行热退火的过程中ni/au接触特性显示出可逆现象。ni/au

  https://www.alighting.cn/2013/1/29 15:47:52

led衬底|基板(substrate)

通俗来讲,led和半导体激光器等的发光部分的半导体层,是在基板上生长结晶而成。采用的基板根据led的发光波长不同而区分使用。如果是蓝色led和白色 led等GaN类半导体材

  https://www.alighting.cn/resource/20130128/126108.htm2013/1/28 9:55:40

GaN氮化镓(gallium nitride)

由镓(ga)和氮(n)构成的化合物半导体。带隙为3.45ev(用光的波长表示相当于约365nm),比硅(si)要宽3倍。利用该特性,GaN主要应用于光元件。通过混合铟(in)和

  https://www.alighting.cn/2013/1/25 13:18:42

pss衬底(patterned sapphire substrate)

pss最近受到热捧,pps的衬底可以有效减少GaN外延材料的位元错密度,从而减小有源区的非辐射复合,提升内量子效率,减小反向漏电流,提高led的寿命;另一方面有源区发出的光,

  https://www.alighting.cn/resource/20130117/126148.htm2013/1/17 20:11:08

si基外延GaN中缺陷的腐蚀研究

本文研究了两组不同晶体质量的GaN外延片在koh溶液中腐蚀后的表面形貌。实验发现腐蚀后出现了六角腐蚀坑,腐蚀坑的密度随腐蚀时间延长而增加,说明GaN外延生长过程中位错密度是逐渐降

  https://www.alighting.cn/2013/1/17 15:18:08

激光切割在led行业的应用及发展

激光加工由于具有能量集中、热影响区域小、不需接触加工工件,对工件无污染、不受电磁干扰,且激光束易于聚焦、导向、便于自动化控制等优点。 现已广泛应用于半导体、led和光伏太阳能等许多

  https://www.alighting.cn/2013/1/11 17:26:28

提高应变弛豫与非极化/半极化GaN技术

应用多项高端纳米技术改善mocvd生长在蓝宝石衬底上GaN的晶体特性和光学性能,并因此从根本上大幅提高相关高亮led的发光效率。

  https://www.alighting.cn/2012/12/5 18:18:30

新一代led制造技术的几个关键基础问题

本文为东南大学吕家东先生关于《新一代led制造技术的几个关键基础问题》的研究,文中阐述新一代led制造中出现的共性技术问题,需要基础研究和理论提供支撑。创新(新原理、新方法、新设备

  https://www.alighting.cn/2012/11/27 14:44:19

【特约】新一代led制造技术的几个关键基础问题

主要内容包括五个关键技术和三大基础问题

  https://www.alighting.cn/resource/2012/11/26/15329_46.htm2012/11/26 15:03:29

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