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用氧化镓制造功率元件 与sic相比成本低且性能出色(2)

采用β-ga2o3制作基板时,可使用“fz(floating zone)法”及“efg(edge-definedfilm-fed growth)法”等溶液生长法,这也是其特点之一,

  https://www.alighting.cn/2012/4/24 14:17:04

用氧化镓制造功率元件 与sic相比成本低且性能出色[1]

与sic和gan相比,β-ga2o3有望以低成本制造出高耐压且低损失的功率半导体元件,因而引起了极大关注。契机源于日本信息通信研究机构等的研究小组开发出的β-ga2o3晶体管。下面

  https://www.alighting.cn/2012/4/19 18:06:25

激光剥离技术实现垂直结构gan 基led

为400mj/ cm2 的条件下, 将gan 基led 从蓝宝石剥离, 结合金属熔融键合技术, 在300?? 中将gan 基led 转移至高电导率和高热导率的硅, 制备出了具

  https://www.alighting.cn/resource/2012/4/11/101149_25.htm2012/4/11 10:11:49

图形化上外延结构的形态演化

本文采用相场数值模拟研究了图形化上外延形态演化及其可调控性。发现通过在表面预制合适的图形,改变外延层表面初始的应变分布,从而有效控制外延层表面的形态演变路径,可以获得高

  https://www.alighting.cn/2012/4/9 17:52:41

mocvd反应器中瞬态热流场的数值研究

在mocvd 反应器中外延异质结构的材料时,用来生长晶体的各组份和掺杂剂,都是以气态方式进入反应器的;该系统通过周期性地切换各种反应气体控制其流入量,在上外延出特定组份、特

  https://www.alighting.cn/2012/4/9 17:29:55

图形化(pss)刻蚀设备工艺研究进展

图形化(pss)技术可以有效地减少外延材料的位错和缺陷,在氮化物器件制备中得到了广泛的应用。但是由于蓝宝石具有稳定的化学和物理性质,使得很难进行刻蚀和图形化制作。

  https://www.alighting.cn/2012/4/9 13:18:31

浅析:led被静电击穿的现象及原因

在极短的瞬间(纳秒级)对led芯片的两个电极之间进行放电,瞬间将在两个电极之间(阻值最小的地方,往往是电极周围)的导电层、发光层等芯片内部物质产生局部的高温,温度高达1400℃,这

  https://www.alighting.cn/2012/3/22 12:56:19

图形化led芯片的技术研究

本文的主要研究内容涉及图形化对gan基led发光二极管光电性能的影响。实验中制作了表面图形直径和周期不同的gan图形。再利用mocvd材料生长设备侧向外延生长了gan

  https://www.alighting.cn/resource/20120314/126666.htm2012/3/14 14:36:30

蓝宝石的图形化技术在gan基led上的应用

针对于目前蓝光led所使用的蓝宝石存在以下两个问题,蓝宝石和gan存在着17%的晶格不匹配,直接在蓝宝石上生长出来的外延缺陷严重。出光效率低下,大部分光被限制在led芯片

  https://www.alighting.cn/resource/20120314/126667.htm2012/3/14 13:45:14

大功率led热阻测量研究

容参数, 结合理论计算得到的各组样品热阻、热容参数, 试图将拟合值同实际封装结构中芯片和固晶界面的热阻、热容进行匹配. 最后测量了工作条件下结温和焊点温度, 计算出器件热阻,并

  https://www.alighting.cn/2012/3/12 13:13:30

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