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蓝光led led企业崛起的利器

d,姗姗来迟  1907年,在英国马可尼电子公司工作的英国工程师亨利·约瑟夫-劳德第一次在一块碳化硅晶体里观察到电致发光现象。这种“电致发光”现象也奠定了led被发明的物理基

  http://blog.alighting.cn/220048/archive/2014/10/13/358956.html2014/10/13 16:43:33

si衬底GaN基蓝光led老化性能

报道了芯片尺寸为500μm×500μm硅衬底GaN基蓝光led在常温下经1000h加速老化后的电学和发光性能,其光功率随老化时间的变化分先升后降两个阶段.

  https://www.alighting.cn/2014/10/13 13:38:36

高温预生长对图形化蓝宝石衬底GaN 薄膜质量的提高

在图形化蓝宝石衬底生长低温缓冲层之前,通入少量三甲基镓(tmga)和大量氨气进行短时间的高温预生长,通过改变tmga 流量制备了4 个蓝光led 样品。

  https://www.alighting.cn/2014/10/13 11:35:44

科锐推出业界首款1.7kv全sic功率模块

基igbt(绝缘栅双极型晶体

  https://www.alighting.cn/pingce/20141013/121580.htm2014/10/13 9:55:57

高亮度GaN基蓝光与白光led的研究和进展

GaN基蓝光led高亮度化对传统照明光源带来了很大冲击。简述了GaN材料和GaN基蓝光led器件结构的发展,阐述了为改善led性能的一些新措施,led在照明光源上的应用优势,给

  https://www.alighting.cn/2014/10/11 11:37:06

人体模式静电对GaN 基蓝光led载流子运动及其可靠性的影响

静电引起的失效机理可以概述为二次缺陷和熔融通道的产生、深浅能级载流子的运动和辐射复合、非辐射复合之间的转变等因素引起的led 性能退化。

  https://www.alighting.cn/resource/20141011/124219.htm2014/10/11 10:09:34

si衬底GaN基蓝光led钝化增透膜研究

在si衬底GaN 基蓝光led 芯片上生长了一层sion 钝化膜,使器件的光输出功率提高12%且有效降低了器件在老化过程中的光衰。

  https://www.alighting.cn/resource/20141010/124221.htm2014/10/10 14:53:30

中村修二:获奖无上荣光,led照明梦想成真是本愿

修二目前在美国加利福尼亚大学圣塔芭芭拉分校(ucsb)任教授一职。ucsb对于中村开发的GaN基半导体光器件表示,“这是在过去30年半导体材料科学领域中,最为重要的成就之一”。其

  http://blog.alighting.cn/xyz8888888/archive/2014/10/9/358745.html2014/10/9 16:35:03

了解一些大功率led芯片制造的东西

置的晶体结构的led面板灯芯片的led芯片的下一个大的,在陶瓷板和陶瓷基板的共晶钎料层和导电层,在该区域产生的相应的引线,焊接电极中使用水晶led芯片和大规格陶瓷薄板焊接的焊接设备。这

  http://blog.alighting.cn/90987/archive/2014/10/8/358692.html2014/10/8 16:09:48

蓝光led引发第二次照明革命!

替原来的光源,不仅能为人类节省大量能源,也能照亮全球更多地方。  蓝光led,姗姗来迟1907年,在英国马可尼电子公司工作的英国工程师亨利·约瑟夫-劳德第一次在一块碳化硅晶体里观察到

  http://blog.alighting.cn/smartlight/archive/2014/10/8/358650.html2014/10/8 11:00:54

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