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cob封装对led光学性能影响的研究

高出光效率,并实现特定的光学分布。实验结果表明:文章提出的封装工艺对于提高光通量和光效、调节色温有良好的效

  https://www.alighting.cn/resource/20130806/125417.htm2013/8/6 16:47:55

大功率led封装设与制造的关键问题研究

射引入芯片的光学建模,通过裸芯片和封装后芯片的仿真结果与实验结果的比较,确定了led芯片的精确光学模型和相应的仿真算方法,将芯片的取光效率和光强分布的模拟准确度提高到95%以

  https://www.alighting.cn/resource/20130723/125442.htm2013/7/23 11:41:57

半导体照明标准和测试方法简介

一份出自杭州远方光电信息有限公司,由潘建根/教授级高工主讲的关于介绍《半导体照明标准和测试方法简介》的讲义资料,介绍了半导体照明标准以及相应的测试方法,现在分享给大家,欢迎下载附件

  https://www.alighting.cn/resource/20130710/125465.htm2013/7/10 11:37:02

关于led成像分布光度的研究

本文介绍并探讨了一种新型的基于成像方法的测试光度,并且对其进行了研究,对于具有半面发光特点的led光度测试,给出了一种解决方案.目前测试的结果,比较吻合实际led的配光曲线,具

  https://www.alighting.cn/resource/20130709/125467.htm2013/7/9 11:04:42

缓冲层生长压力对mocvd gan性能的影响

描电子显微(sem)分析结果表明,缓冲层生长压力越大,gan缓冲层退火后成核中心体积越小,表面粗糙度越大,高温生长gan岛间合并延迟.x射线衍射(xrd)和光致发光谱(pl)测

  https://www.alighting.cn/resource/20130625/125485.htm2013/6/25 16:38:58

低温cvd法在玻璃衬底上制备zno纳米线阵列

采用化学气相沉积(cvd)法在镀cr(20nm)的玻璃衬底上,低温制备了zno纳米线阵列。利用扫描电子显微(sem)和x射线衍射(xrd)对样品的表面形貌和微结构进行了分析表

  https://www.alighting.cn/resource/20130606/125528.htm2013/6/6 11:15:19

提高gan基发光二极管外量子效益的途径

发光二极管(led)低的外量子效率严重制约了led 的发展,本文主要介绍了提高gan 基led 外量子效率途径的最新进展,包括芯片非极性面/半极性面生长技术,分布布拉格反射

  https://www.alighting.cn/resource/20130531/125543.htm2013/5/31 11:31:30

用于微机电系统的类金刚石膜制备及表征

子力显微、微摩擦和扫描电等对薄膜的表面形貌、摩擦系数和耐磨损性能进行了表征和测量

  https://www.alighting.cn/2013/5/30 10:01:53

化学共沉淀法制备的红色荧光粉及其发光性能

用化学共沉淀法一次煅烧工艺合成了(y1-x-y,gdy)2o3∶xeu3+(x=0.06~0.10,y=0,0.20~0.25)系列红色荧光粉。用xrd、sem和荧光分光光度,

  https://www.alighting.cn/resource/20130527/125562.htm2013/5/27 11:37:11

白光led光斑均匀性的改进

善荧光粉层结构形状,以提高白光led器件的出射光斑均匀性。并通过九点法对不同工艺结构下led出射光斑的空间色度分布进行了测量和分

  https://www.alighting.cn/resource/20130527/125564.htm2013/5/27 10:37:19

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