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GaN薄膜的溶胶-凝胶法制备及其表征

采用溶胶凝胶法成功地制备出氮化薄膜.以单质源制备盐溶液、柠檬酸为络合剂制备出前驱体溶胶,再甩胶于si(111)衬底上,在氨气氛下热处理制备出GaN薄膜.x射线衍射(xr

  https://www.alighting.cn/resource/20110919/127128.htm2011/9/19 9:09:10

GaN led外延片微结构分析及性能研究

本文主要利用x射线衍射和透射电子显微镜技术对蓝宝石衬底上生长的GaN基led外延片的微结构进行了研究,主要研究工作为: 1.采用x射线衍射绝对测量法精确测量了GaN薄膜的晶格参

  https://www.alighting.cn/resource/20110916/127130.htm2011/9/16 15:30:52

GaN led量子阱光发射模型

在分析GaN led量子阱结构对载流子限制和俘获的基础上,考虑量子限制stark效应和franz-keldysh效应,提出了一种基于inGaN有源区的载流子复合及光发射模型.模

  https://www.alighting.cn/resource/20110916/127131.htm2011/9/16 15:14:50

GaN类功率半导体能否成为新一代功率半导体的主角?(上)

GaN氮化)作为可大幅降低电力损耗的新一代功率半导体备受关注。利用GaN功率元件的环境目前正在迅速形成。很多企业将在2011年下半年至2012年期间开始供货GaN类功率元

  https://www.alighting.cn/resource/20110914/127148.htm2011/9/14 11:52:00

氢化物气相外延自支撑GaN衬底制备技术研究进展

氢化物气相外延(hvpe)是制备氮化(GaN)衬底最有希望的方法.本文介绍了氮化材料的电学、光学性质及重要用途,总结了GaN体单晶及薄膜材料制备方法,描述了氢化物气相外延技

  https://www.alighting.cn/resource/20110913/127162.htm2011/9/13 9:04:57

利用三步法mocvd生长器件质量的GaN

在传统的二步mocvd外延生长的基础上 ,报道了一种在低压mocvd中用三步外延生长GaN材料的新方法 ,它在生长低温缓冲层前 ,用原子层的方法生长一层高质量的aln层来减少al

  https://www.alighting.cn/resource/20110909/127170.htm2011/9/9 9:12:43

蓝紫光inGaN多量子阱激光器

在(0001)蓝宝石衬底上外延生长了inGaN长周期多量子阱激光器结构.三轴晶x射线衍射测量显示该多量子阱结构质量优良.用该外延片制作了脊形波导GaN激光器,激光器的腔面为ga

  https://www.alighting.cn/resource/20110909/127172.htm2011/9/9 8:46:06

GaN类功率半导体能否成为新一代功率半导体的主角?(下)

GaN类功率半导体能否成为新一代功率半导体的主角?GaN类功率元件的成本、电气特性以及周边技术方面存在的课题是如何解决的呢?

  https://www.alighting.cn/resource/20110906/127189.htm2011/9/6 17:59:41

湿法腐蚀制备蓝宝石图形衬底的研究

利用湿法腐蚀方法,制备出图形化蓝宝石衬底(pss)。在相同的腐蚀时间下,研究腐蚀液温度对腐蚀蓝宝石表面形貌和外延后GaN材料的影响。扫描电镜(sem)测试结果表明:随着腐蚀液温

  https://www.alighting.cn/resource/20110906/127192.htm2011/9/6 13:52:00

功率型led中的光学与热学问题

由于iii族氮化物的p型掺杂受限于mg受主的溶解度和空穴的较高激活能,热量特别容易在p型区域中产生,这个热量必须通过整个结构才能在热沉上消散;led器件的散热途径主要是热传导和

  https://www.alighting.cn/resource/20110905/127197.htm2011/9/5 14:38:54

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