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生长温度对sizno薄膜结构的影响

通过脉冲激光沉积方法在1.3pa氧氛围,100-500℃温度,si(111)上成功地制备了zno薄膜,我们用x射线衍射(xrd)谱,原子力显微镜(afm),透射电镜(te

  https://www.alighting.cn/resource/20130515/125605.htm2013/5/15 11:28:09

新一代gan技术 可大大提升led制造良率

性(semipolar) gan的制程技

  https://www.alighting.cn/resource/20090420/128683.htm2009/4/20 0:00:00

普瑞光电推出新型氮化镓硅led制造技术

普瑞光电近日宣布,他们已经成功实现了最新的基于硅的led制造技术研发成果。该技术主要使用成本较低的硅来取代目前使用的更昂贵的制造材料。

  https://www.alighting.cn/news/20110315/115520.htm2011/3/15 10:26:38

日本公司推新:led亮度提升10%

tdk公司开发的陶瓷在像半导体的晶片里面加工与制造,并与变阻器具有相同的功能,变阻器被用来防止静电,但是通常不能与led同用。

  https://www.alighting.cn/news/20090420/120827.htm2009/4/20 0:00:00

太阳能光伏热潮退,gtat在华销售转向led

在中国太阳能光伏的投资热潮出现过热并遭到政策调控后,gtat在华销售也一度受到影响,但是他们看到了中国更大的蓝宝石市场,目前其提供的蓝宝石晶炉可以提高生产led晶片的蓝宝石

  https://www.alighting.cn/news/20111124/114382.htm2011/11/24 9:01:36

图形蓝宝石基gan性能的研究

在相同的腐蚀温度下,通过控制对蓝宝石的化学腐蚀时间,以研究其对gan光学性质的影响。测试结果表明:对蓝宝石腐蚀50 min后,外延生长的gan薄膜晶体质量及光学质量最优,

  https://www.alighting.cn/resource/20110905/127200.htm2011/9/5 10:19:25

led、外延及芯片的技术发展趋势

别在led、外延、芯片的核心技术研究方面,已取得突破性成果。对led发展提出了不同的技术路线和“终极目标”的技术方案,以及提出新的发光材料。为此,本文除简要描述半导体照明上游产

  https://www.alighting.cn/2013/8/13 9:58:57

图形化上外延结构的形态演化

本文采用相场数值模拟研究了图形化上外延形态演化及其可调控性。发现通过在表面预制合适的图形,改变外延层表面初始的应变分布,从而有效控制外延层表面的形态演变路径,可以获得高

  https://www.alighting.cn/2012/4/9 17:52:41

sigan基led外延薄膜转移至金属基板的应力变化

采用电镀金属基板及湿法腐蚀的方法将硅上外延生长的ganmqwled薄膜转移至不同结构的金属基板,通过高分辨x射线衍射(hrxrd)和光致发光(pl)研究了转移的gan薄

  https://www.alighting.cn/resource/20111025/126968.htm2011/10/25 13:48:12

gan技术的新进展及应用

n材料工艺对发展gan半导体器件产业至关重要

  https://www.alighting.cn/resource/20100607/128384.htm2010/6/7 0:00:00

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