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芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/nomonomo/archive/2012/5/16/274765.html2012/5/16 21:30:35

蓝宝石衬底分子束外延生长GaN薄膜的原位椭偏光谱分析

通过研究蓝宝石衬底分子束外延(mbe)生长GaN薄膜过程中原位椭偏光谱,发现常规蓝宝石衬底mbe生长GaN薄膜的位错缺陷主要起源于缓冲层升温过程中应变能的释放程度。采用蓝宝石邻晶

  https://www.alighting.cn/resource/20110722/127403.htm2011/7/22 14:04:45

三菱化学试制20mm×12mm大型m面GaN底板

三菱化学试制出了尺寸约为长20mm×宽12mm的大尺寸m面GaN底板。

  https://www.alighting.cn/resource/20070920/128532.htm2007/9/20 0:00:00

管型元led电光源的研究

本文阐述对一种采用微晶芯片制成的管型元led的研究,这种管型元led结构是将n个≤25μm×25μm的芯片贴装在透光导热良好的片上,通过串并联后再与梳篦状结构的导电和导

  https://www.alighting.cn/resource/2011/1/6/101442_72.htm2011/1/6 10:14:42

GaN外延膜的红外椭偏光谱研究

本文通过对椭偏光谱的理论计算,拟合了本征GaN中的声子振动参量和等离子震荡的频率及阻尼常量,并由此得到了各向异性的折射率和消光系数的色散曲线以及载流子浓度和迁移率。

  https://www.alighting.cn/2015/3/20 10:15:14

bluglass公司6英寸玻璃衬底GaN led发出蓝光

2007年6月7日,澳大利亚bluglass公司称其在直径6英寸镀膜玻璃晶片上沉积的GaN发出蓝光,这在世界上是第一次。大尺寸玻璃晶片上高质量led材料的沉积技术的进步可能最终带

  https://www.alighting.cn/resource/20070611/128507.htm2007/6/11 0:00:00

日本开发出使用氧化镓板的GaN类led元件

外媒报导,日本田村制作所与光波公司,开发出了使用氧化镓板的GaN类led元件,预计该元件及氧化镓(ga2o3)板可在2011年度末上市。该led元件与以前使用蓝宝石板的le

  https://www.alighting.cn/news/20110329/100897.htm2011/3/29 17:46:25

晶能光电推出光效超120lm/w硅大功率led芯片

晶能光电此次共推出包含28 *28、35*35、45*45和55 *55在内的四款硅大功率芯片,发光效率已超过120lm/w。

  https://www.alighting.cn/pingce/20120614/122391.htm2012/6/14 10:06:35

aixtron推出新款aix g5+矽氮化镓mocvd设备

aixtron近日推出最新产品aix g5+,为其aix g5行星式反应器平台提供5x200 mm(8吋) 矽氮化镓生长专用设备,可一次处理5片8吋晶圆。

  https://www.alighting.cn/pingce/20120725/122453.htm2012/7/25 9:45:19

陶氏化学于韩国设的三甲镓(tmg)新厂动工兴建

美国化工业龙头陶氏化学(dow chemical co.)子公司dow electronic materials宣布,其位于南韩天安(cheonan)的三甲镓(tmg)新厂已

  https://www.alighting.cn/news/20101104/107836.htm2010/11/4 0:00:00

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