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普莱思借力爱思强 扩大硅氮化镓led生产

普莱思半导体有限公司今日宣布已订购另一套crius?ii-xlmocvd 系统用于硅氮化镓led(发光二极管)的生产。

  https://www.alighting.cn/news/20140528/110692.htm2014/5/28 13:45:52

芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/magicc/archive/2011/8/19/232804.html2011/8/19 0:06:00

芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/12/19/258586.html2011/12/19 11:01:38

芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/hengbin/archive/2012/1/8/261482.html2012/1/8 21:45:35

芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/121509/archive/2012/1/29/262654.html2012/1/29 0:35:55

芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/ciesawa/archive/2012/4/10/271756.html2012/4/10 23:31:25

芯片大小和电极位置对GaNled特性的影响

摘 要:用同种ganled外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:ganled芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性

  http://blog.alighting.cn/nomonomo/archive/2012/5/16/274765.html2012/5/16 21:30:35

GaN外延膜的红外椭偏光谱研究

本文通过对椭偏光谱的理论计算,拟合了本征GaN中的声子振动参量和等离子震荡的频率及阻尼常量,并由此得到了各向异性的折射率和消光系数的色散曲线以及载流子浓度和迁移率。

  https://www.alighting.cn/2015/3/20 10:15:14

bluglass公司6英寸玻璃衬底GaN led发出蓝光

2007年6月7日,澳大利亚bluglass公司称其在直径6英寸镀膜玻璃晶片上沉积的GaN发出蓝光,这在世界上是第一次。大尺寸玻璃晶片上高质量led材料的沉积技术的进步可能最终带

  https://www.alighting.cn/resource/20070611/128507.htm2007/6/11 0:00:00

日本开发出使用氧化镓板的GaN类led元件

外媒报导,日本田村制作所与光波公司,开发出了使用氧化镓板的GaN类led元件,预计该元件及氧化镓(ga2o3)板可在2011年度末上市。该led元件与以前使用蓝宝石板的le

  https://www.alighting.cn/news/20110329/100897.htm2011/3/29 17:46:25

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