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芯片大小和电极位置对GaN基led特性的影响

用同种GaN基led外延片材料制作了不同尺寸和电极位置的芯片,测试比较了它们的i-v特性和p-i特性。结果表明:GaN基led芯片在20ma以下的i-v特性和p-i特性与尺寸大

  https://www.alighting.cn/resource/20110323/127842.htm2011/3/23 13:37:45

氮化镓(GaN)衬底及其生产技术

用于氮化镓生长的最理想的衬底自然是氮化镓单晶材料,这样可以大大提高外延膜的晶体质量,降低位错密度,提高器件工作寿命,提高发光效率,提高器件工作电流密度。可是,制备氮化镓体单晶材料非

  https://www.alighting.cn/resource/20110211/128058.htm2011/2/11 10:38:56

mocvd生长GaN基蓝光led外延片的研究

ccs-mocvd系统生长了inGaN/GaN mqw蓝光led外延片。通过实验,对两片样品外延片进行了分析和测试,发现衬底氨化时间的长短和生长GaN缓冲层镓量与氨量的化学计量

  https://www.alighting.cn/resource/20110117/128080.htm2011/1/17 15:03:18

【专业术语】蓝色led专利诉讼

围绕GaN类蓝色led的相关专利,大型led厂商曾在日本以及海外展开过诉讼。1996年日亚化学工业以丰田合成侵犯了该公司专利为由对后者提起诉讼,为了与之对抗,丰田合成也起诉了日

  https://www.alighting.cn/resource/20110111/128088.htm2011/1/11 15:46:14

高亮度led的发展及应用

源制造商正在加强和led制造商的联合。超高亮度led主要指algainp的红、橙、黄色led,GaN基蓝、绿、紫和紫外线le

  https://www.alighting.cn/resource/20110104/128108.htm2011/1/4 10:59:03

【专业术语】外延生长(epitaxial growth)

外延片生长是指:在基片上生长结晶轴相互一致的结晶层的技术。

  https://www.alighting.cn/resource/20101231/128112.htm2010/12/31 10:57:06

GaN材料的特性与应用,GaN发展历程及前景概要

本文就“GaN材料的特性与应用,GaN是什么?”做了简要的分析概述,以飨读者;

  https://www.alighting.cn/resource/20101210/128138.htm2010/12/10 13:45:00

什么是GaN的最佳衬底?

对于高亮度led制造业来说,蓝宝石上GaN明显是一种领先的方案;sic上GaN几乎也一样,对眼下基于氮化物的无线/射频产品而言,它是一张中奖彩票。硅上GaN也是用于这几个市场,但

  https://www.alighting.cn/resource/20101201/128165.htm2010/12/1 15:21:37

日厂住友电工首创绿色雷射用2寸GaN基板量产技术

据悉,现行的制造技术仅能制作出数mm左右大小的长方形GaN基板。住友的GaN基板,突破这一量产组件的瓶颈,即使与现行已进行量产的GaN基板结晶面(crystal face)相

  https://www.alighting.cn/resource/20101125/128781.htm2010/11/25 0:00:00

基于si衬底的功率型GaN基led制造技术

1993年世界上第一只GaN基蓝色led问世以来,led制造技术的发展令人瞩目。目前国际上商品化的GaN基led均是在蓝宝石衬底或sic衬底上制造的。但蓝宝石由于硬度高、导电

  https://www.alighting.cn/resource/20101124/128212.htm2010/11/24 17:57:30

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