检索首页
阿拉丁已为您找到约 24174条相关结果 (用时 0.0861301 秒)

采用mocvd方法在gaas上生长zno和zno薄膜

采用金属有机化学汽相沉积生长法(mocvd),在不同的表面处理条件和生长温度下,在gaas上生长出了zno薄膜。随着化学腐蚀条件的不同,可生长出优先定位不同的zno(10

  https://www.alighting.cn/resource/20130516/125599.htm2013/5/16 10:31:08

资金链断裂 蓝宝石领域多米诺骨牌效应初现

据业内人士指出,2013年国内蓝宝石项目至少要停掉50%以上,这也就意味着此前在建的60多个项目,至少有一半项目将被迫退出。一场蓝宝石领域的洗牌大战已经悄无声息地开始。

  https://www.alighting.cn/news/20130415/90242.htm2013/4/15 10:19:57

2011年科瑞斯特设备将提供600万片蓝宝石

科瑞斯特的客户,目前主要在台湾和中国大陆,台湾的两家客户规划安装的设备数量各达到了200台。2011年,科瑞斯特的客户将可以提供2英寸和4英寸的蓝宝石600万片。今年11

  https://www.alighting.cn/news/20100831/121008.htm2010/8/31 0:00:00

晶能光电基大功率led芯片量产入选“全球半导照明2012年度新闻”

国际半导照明联盟(isa)在广州举行年度成员大会,并正式发布了“全球半导照明2012年度新闻”评选结果。晶能光电作为“全球首家量产基大功率led芯片的公司”成功入选了“全

  https://www.alighting.cn/news/20121105/113019.htm2012/11/5 11:49:36

安森美半导加入imec基氮化镓研究项目

安森美半导(on semiconductor)加入了领先纳米电子研究中心imec的多合作伙伴业界研究及开发项目,共同开发下一代基氮化镓(gan-on-si)功率器件。

  https://www.alighting.cn/news/20121010/113599.htm2012/10/10 11:35:07

条形叉指n阱和p结的led设计及分析

采用0.35μm双栅标准cmos工艺最新设计和制备了叉指型siled发光器件。器件结构采用n阱和p结,n阱为叉指结构,嵌入到p中而结合成sipn结led。观察了sile

  https://www.alighting.cn/resource/20120312/126682.htm2012/3/12 10:46:52

低温cvd法在玻璃上制备zno纳米线阵列

采用化学气相沉积(cvd)法在镀cr(20nm)的玻璃上,低温制备了zno纳米线阵列。利用扫描电子显微镜(sem)和x射线衍射(xrd)对样品的表面形貌和微结构进行了分析表

  https://www.alighting.cn/resource/20130606/125528.htm2013/6/6 11:15:19

图形化led芯片的技术研究

本文的主要研究内容涉及图形化对gan基led发光二极管光电性能的影响。实验中制作了表面图形直径和周期不同的gan图形。再利用mocvd材料生长设备侧向外延生长了gan

  https://www.alighting.cn/resource/20120314/126666.htm2012/3/14 14:36:30

将sic外延晶圆产能提高到2.5倍

昭和电工宣布,将功率半导器件用4英寸sic外延晶圆(也叫磊晶)的产能提高到了原来的2.5倍。

  https://www.alighting.cn/2012/9/10 13:34:55

图形化(pss)刻蚀设备工艺研究进展

图形化(pss)技术可以有效地减少外延材料的位错和缺陷,在氮化物器件制备中得到了广泛的应用。但是由于蓝宝石具有稳定的化学和物理性质,使得很难进行刻蚀和图形化制作。

  https://www.alighting.cn/2012/4/9 13:18:31

首页 上一页 27 28 29 30 31 32 33 34 下一页