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高压发光二极管(hv led)芯片开发及产业化

本文通过对蓝宝石衬底外延生长、芯片微晶粒分立阵列及微晶粒间电极桥接等多种技术手段的研究,制备正装高压发光二极管(hv led) ,其产业化光效已超过 110lm/w;10μa

  https://www.alighting.cn/resource/2013/10/29/104737_35.htm2013/10/29 10:47:37

高压发光二极管(hv led)芯片开发及产业化

《高压发光二极管(hv led)芯片开发及产业化》通过对普通蓝宝石衬底外延生长、芯片微晶粒分立阵列及微晶粒间电极桥接等多种技术手段的研究,制备出正装高压发光二极管(hv le

  https://www.alighting.cn/resource/2011/6/20/162618_06.htm2011/6/20 16:26:18

高性能背照式gan/algan p-i-n紫外探测器的制备与性能

研究了gan/algan异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。gan/algan外延材料采用金属有机化学气相沉积(mocvd)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝

  https://www.alighting.cn/resource/20130522/125583.htm2013/5/22 10:23:13

mocvd法制备磷掺杂p型zno薄膜

利用金属有机化学气相沉积方法在玻璃衬底上生长了掺磷的p型zno薄膜.实验采用二乙基锌作为锌源,高纯氧气和五氧化二磷粉末分别作为氧源及磷掺杂源.实验表明生长温度为400~450℃

  https://www.alighting.cn/resource/20110930/127048.htm2011/9/30 10:49:25

高压发光二极管(hv led)芯片开发及产业化

通过对蓝宝石衬底外延生长、芯片微晶粒分立阵列及微晶粒间电极桥接等多种技术手段的研究,制备正装高压发光二极管(hv led) ,其产业化光效已超过 110lm/w;10μa 下点

  https://www.alighting.cn/resource/20110604/127514.htm2011/6/4 22:12:37

2009年led行业深度调研报告

明产业仍处于起步阶段。与国外企业相比,我国半导体照明产业的国际竞争力仍远远不够。我国半导体产业面临研发力量分散、整体技术实力不强、企业规模小、上中下游产业配套与联合攻关不够等问题,应

  https://www.alighting.cn/resource/2009925/V943.htm2009/9/25 16:37:49

浅析led光输出强度衰退的评估

生长技术的改进和设计水平的提高,生产出更高效的照明光源是必然的,例如,这里已有报告131lm/wled(8w)[4]和150lm/w(9lm)[2]的效率,预计到2020年,le

  https://www.alighting.cn/resource/2010819/V1142.htm2010/8/19 14:13:43

gan基发光二极管合成照明光源的开发研究

倍。也正是由于gan基蓝绿光led器件的出现,弥补了led器件在短波长方面的缺憾,不仅实现了led全彩显示,而且也使led白光照明成为可能。随着材料生长及制作技术的迅猛发展,le

  https://www.alighting.cn/resource/2009116/V993.htm2009/11/6 14:25:58

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