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led行业2013下半年上游报告

分享一份来自国金证券研究所的《led行业2013下半年上游报告》,欢迎下载附件查看详细内容。

  https://www.alighting.cn/resource/20131104/125156.htm2013/11/4 15:30:50

iqe与德国飞利浦签订三年期磊晶片供应合约

近日,晶圆代工和衬底制造商iqe宣布其与philips technologie gmbh(“飞利浦”)签订初始三年期磊晶片(用于垂直腔面发射激光器(vcsel)设备的生产)供应合

  https://www.alighting.cn/news/20131030/111688.htm2013/10/30 16:01:26

GaN外延片中载流子浓度的纵向分布

采用适合宽禁带半导体材料的电化学电容电压(ecv)分析仪,对掺硅GaN外延片用硫酸逐层进行了精密腐蚀后,在此基础上得到了在进口mocvd设备上生产的GaN基外延片的载流子浓度纵

  https://www.alighting.cn/resource/20131029/125182.htm2013/10/29 10:01:55

多家led巨头纷纷瞄准6英寸sic晶圆市场

近日,关于sic功率半导体的国际学会“icscrm 2013”于日本宫崎县举行。多家sic基板厂商展示了直径为6英寸(150mm)的晶圆。这种晶圆是现行3~4英寸(75mm~10

  https://www.alighting.cn/news/20131009/111759.htm2013/10/9 16:50:25

硅衬底GaN基ledn极性n型欧姆接触研究

在si衬底GaN基垂直结构led的n极性n型面上,利用电子束蒸发的方法制作了ti/al电极,通过了i-v曲线研究了有无aln缓冲层对这种芯片欧姆接触的影响。

  https://www.alighting.cn/2013/9/30 11:37:32

李世玮:晶圆级封装成未来趋势

略和发展新出路、led照明企业外销转内销以及未来led照明新技术等五大热点话题分别展开了主题演讲。 本次峰会最后,香港科技大学深圳研究生院常务副院长李世玮对led晶圆级封装技术趋势与企

  http://blog.alighting.cn/lishiwei/archive/2013/9/28/326710.html2013/9/28 14:21:30

两步镀膜ti/al/ti/au的n型GaN欧姆接触研究

报道了一种可靠稳定且低接触电阻的n型GaN欧姆接触。首先在掺硅的n型GaN(3×1018cm-3)蒸镀ti(30nm)/al(500nm),然后在氮气环境530℃合金化3mi

  https://www.alighting.cn/resource/20130924/125296.htm2013/9/24 13:44:54

led芯片制作

《led芯片制作》分享给大家,欢迎下载附件查看详细内容。

  https://www.alighting.cn/resource/20130916/125323.htm2013/9/16 13:28:28

中心优秀论文在icept2013上发表

n》,介绍目前在晶圆级封装远程荧光粉涂覆技术的研究情况,获得热烈反响。(主任李世玮教授作主题报告) 会议共发表论文近300篇。其中,中心制程工程师邹华勇发表论文“experimenta

  http://blog.alighting.cn/lishiwei/archive/2013/9/9/325551.html2013/9/9 14:13:01

大陆pk日、美、德 led芯片核心技术落后20年

GaN和sic对功率电子市场来说还不成熟。前者要求在制造工艺上做技术改进,特别是外延厚度;而后者,目前是一种昂贵的材料,不适合在消费类市场使用。更先进的sic和GaN,中国是完

  https://www.alighting.cn/news/201396/n370855917.htm2013/9/6 10:42:55

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