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场前景也非常可观。lEd用荧光粉尚待创新 近年来，在照明领域最引人关注的事件是半导体照明的兴起。20世纪90年代中期，日本日亚化学公司的nakamura等人经过不懈努力，突破了制
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120554.html2010/12/13 23:05:00
上厂家生产的外延片和芯片的技术性能大多为中低档，一直停留在上一世纪90年代初期（1994年）的带有布拉格反射器的gaas衬底结构，如图1所示,这种结构的发光效率一般仅为10lm/
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120547.html2010/12/13 23:04:00
ｄ进程更是产业界研发的主流方向。 ３、产品封装结构类型 自上世纪90年代以来，ｌｅｄ芯片及材料制作技术的研发取得多项突破，透明衬底梯形结构、纹理表面结构、芯片倒装结构，商品
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120544.html2010/12/13 23:03:00
产，形成年产30亿粒小芯片的产能。计划于2010年扩产到100亿粒。 2009年5月，公司研发的1瓦硅衬底大功率lEd芯片达到90lm，进入普通照明领域。 据了解，晶能光电投
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120522.html2010/12/13 22:53:00
国，改装hid占改装市场的比率不会超过10%（而在日本，这个比率则达到65%以上）这就可能会引来另外90%没有装hid的部分车主骂声一片（因为大部分人认为改装了hid都是白光的，被
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120519.html2010/12/13 22:51:00
辉（＜0.1μsEc）特性和亮度特性。后来，在70年代被应用在高压汞灯中，主要用来提高高压汞灯的显色性。进入90年代后，该荧光粉成为蓝光lEd晶片首选的荧光材料，由于在lEd器件中
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120516.html2010/12/13 22:50:00
——日本,在额定电压100v60hz供电情况下，按6.2.1.1.1的方法测量照度均匀度， 然后分别在供电电压为90v60hz和140v50hz的情况下测量照度均匀度； —
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120496.html2010/12/13 22:33:00
及1997年修订件1,1998年修订件2,1999年修订件3，对原国标gb/t 7249-1987进行修订。本标准的内容与iEc不完全一致，剐掉了我国不使用的E26,E39灯头系列。本标
https://www.alighting.cn/resource/2010/12/13/165025_46.htm2010/12/13 16:50:25
lEd照明，是上世纪90年代发展起来的新一代冷光源，具有寿命长、维护费用低、环保节能等特点。这些技术上的优势为lEd的推广奠定了良好的基础。人们在奥运会开幕式现场、春节联欢晚会现
http://blog.alighting.cn/jingjiu88/archive/2010/12/13/120407.html2010/12/13 14:42:00
进入90年代世界上开发出与高密度电路相对应的感光性覆盖膜， 使得fpc在设计方面有了较大的转变。由于新应用领域的开辟， 它的产品形态的概念又发生了不小的变化，其中把它扩展到包
http://blog.alighting.cn/wasabi/archive/2010/12/13/120404.html2010/12/13 14:40:00
