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sic缓冲层对si表面生长的zno薄膜结构和光电性能的改善

电性能进行了研究。实验结果表明:sic缓冲层改善了zno薄膜的结晶质量和光电性能,其原因可能是sic作为柔性能够减少zno与si之间大的晶格失配和热失配导致的界面缺陷和界面

  https://www.alighting.cn/2011/10/17 14:14:12

100lm/w照明用led大功率芯片的产业化研究

本研究基于蓝宝石图形(pss)制备gan基40mil功率型led芯片,结合版图的优化,改善了电流扩展效应,系统研究了led器件的光电性能。制备的led外延片波长集中在6nm范

  https://www.alighting.cn/resource/20110721/127407.htm2011/7/21 17:45:16

我国led行业1-7月份投资概况

根据公开资料统计,仅2011年1月至7月,我国led行业计划新增投资总额1256.18亿元,其中超过40%的资金是在多个产业环节投资,甚至是进行全产业链投资;上游的和外延芯

  https://www.alighting.cn/news/20110916/90159.htm2011/9/16 17:30:31

基于si的功率型gan基led制造技术

siled芯片制造工艺   siled封装技术   解决方案:   采用多种在线控制技术   通过调节p型层镁浓度结构   采用多层金属结构   1993年世

  http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/12/127090.html2011/1/12 17:23:00

牺牲ni退火对硅gan基发光二极管p型接触影响

本文系统研究了ni覆盖层厚度及退火温度对硅gan基led薄膜p型欧姆接触的影响,在不需二次退火的情况下获得了高性能的p型欧姆接触层。

  https://www.alighting.cn/resource/2013/9/3/175434_16.htm2013/9/3 17:54:34

晶能光电宣布硅大功率led通过lm80测试

近期,晶能光电宣布其硅大功率led芯片系列已经通过了6,000小时的美国环保署认可的第三方ies lm80测试,公司现可根据需要提供lm80测试数据。

  https://www.alighting.cn/news/20131016/n241757471.htm2013/10/16 8:58:15

tdi推出用于制造led的新氮化铟镓(图)

tdi公司,复合氮化物半导体材料领先开发商和供应商,宣布推出世界首个氮化铟镓材料。氮化铟镓是蓝,绿和白光led和蓝激光管生产的主要复合半导体材料。

  https://www.alighting.cn/news/2007821/V8265.htm2007/8/21 11:29:42

需求增长 带动gan先进出现爆发性增长

strategies unlimited在日前最新发布的研究报告中指出,目前市场对蓝紫光激光二极管、uv led以及其他器件的需求日益增长,这将推动类似gan和aln等先进

  https://www.alighting.cn/news/20090601/95276.htm2009/6/1 0:00:00

日立电线生产出3英寸gan 商业化推广尚待研究

2007年4月24日,日立电线株式会社(hitachi cable)确认成功开发产制出直径3英寸的gan,对于led产业将有正面助益。

  https://www.alighting.cn/news/20070426/106320.htm2007/4/26 0:00:00

optek technology发表高导热optotherm ocb201系列散热

近日,tt electronics/optek technology公司开发出一种导热的铝制散热,称为高导热optotherm ocb201系列,可用于可见光发光二极体(le

  https://www.alighting.cn/news/20080318/107021.htm2008/3/18 0:00:00

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