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si衬底GaN蓝光led老化性能

报道了芯片尺寸为500μm×500μm硅衬底GaN蓝光led在常温下经1000h加速老化后的电学和发光性能,其光功率随老化时间的变化分先升后降两个阶段.

  https://www.alighting.cn/2014/10/13 13:38:36

电子束辐照对GaN蓝光led性能的影响

研究了低能电子束辐照(leebi)对大功率GaN 蓝光led 性能的影响。利用实验室提供的电子束模拟空间电子辐射,对蓝光led 进行leebi,并对比未辐照的led,研究其电

  https://www.alighting.cn/2014/10/20 11:16:19

静电对GaN白光led可靠性的影响

GaN白光二极管(led)分别施加-1600、-1200、-800、-400、400、800、1200和1600v静电打击,每次静电打击后,测量led电学参数和光学参数的变化。

  https://www.alighting.cn/2015/2/13 11:12:42

光电激发方式对algainp及GaNled电学特性的影响

采用光激励与电激励的方式对algainp与inGaN/GaNled的电学特性进行了表征,并重点比较分析了两种激励方式的下理想因子这一重要参数的差异。探讨了影响led理想因子的因

  https://www.alighting.cn/2013/4/15 10:33:09

GaN不同电极形状的led性能比较

对前期工作中使用crosslight apsys软件模拟的6种优化电极的GaNinGaN/GaN多量子阱蓝光led芯片进行试制并测试分析,将实验结果与软件模拟结果进行比较,并进

  https://www.alighting.cn/2011/12/6 16:52:22

硅衬底GaNled外延生长的研究

采用在aln缓冲层后原位沉积sin掩膜层,然后横向外延生长GaN薄膜。通过该法在硅衬底上获得了1.7μm无裂纹的GaN薄膜,并在此础上外延生长出了GaN发光二极管(led)外

  https://www.alighting.cn/2013/3/26 11:05:15

高亮度GaN蓝光与白光led的研究和进展

GaN蓝光led高亮度化对传统照明光源带来了很大冲击。简述了GaN材料和GaN蓝光led器件结构的发展,阐述了为改善led性能的一些新措施,led在照明光源上的应用优势,给

  https://www.alighting.cn/2014/10/11 11:37:06

转移板材质对si衬底GaNled芯片性能的影响

在si衬底上生长了GaNled外延材料,分别转移到新的硅板和铜板上,制备了垂直结构蓝光led芯片。

  https://www.alighting.cn/2015/3/3 10:32:36

欧盟1500万美元资助研究开发高效率GaNled

欧盟近期资助的一个研究项目,代号为newled,投资1500万美元,将探讨新的方式来建立不需要荧光粉的白光led,目标是发展高效率、高亮度单片或混合半导体白光GaNled。

  https://www.alighting.cn/news/201335/n850249421.htm2013/3/5 16:47:39

欧盟1500万美元资助研究开发高效率GaNled

欧盟近期资助的一个研究项目,代号为newled,投资1500万美元,将探讨新的方式来建立不需要荧光粉的白光led,目标是发展高效率、高亮度单片或混合半导体白光GaNled。

  https://www.alighting.cn/news/201335/n850249421.htm2013/3/5 16:47:29

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