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定之后才会开始进行量测,而稳定时间最少5分钟以上。因为led与一般硅芯片的特性不同,因为无法确保电极面积的广泛程度,加上包括内部串联电阻值,以及电位出现不均匀分布等等,所产生的顺
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229913.html2011/7/17 23:10:00
led的发光??色和发光效率与氧作led的材料和氧程有关,目前广泛使用的有红、绿、蓝三种。由於led工作电压低(仅1.5-3v),能主动发光且有一定亮度,亮度又能用电压(或电
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229921.html2011/7/17 23:17:00
型器件大电流工作下问题十分突出。碳化硅sic作为衬底材料应用的广泛程度仅次于蓝宝石,目前还没有第三种衬底用于gan led的商业化生产。sic衬底有化学稳定性好、导电性能好、导热性
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229923.html2011/7/17 23:18:00
为砷化镓、磷化铟等光电子材料外延片制备的核心生长技术。目前已经在砷化镓、磷化铟等光电子材料生产中得到广泛应用。日本科学家nakamura将mocvd应用氮化镓材料制备,利用他自己研
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229933.html2011/7/17 23:23:00
用范围广泛,几乎可以生长所有化合物及合金半导体；(2)、非常适合于生长各种异质结构材料；(3)、可以生长超薄外延层,并能获得很陡的界面过渡；(4)、生长易于控制；(5)、可以生长纯
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229936.html2011/7/17 23:24:00
发的。el开发成功后,由四家公司商业化：美国平达系统公司(planar systems, inc.),芬兰finlux公司,日本夏普电子公司,以及日本电装公司。该技术的最初应用广泛且多
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近年来,led显示屏生产技术在我国渐趋成熟,应用领域广泛及普及成为趋势。但目前大多数的led显示屏制造商尚不完全具备生产该类产品的真正能力,从而给led显示屏产品带来了隐患,以
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229941.html2011/7/17 23:26:00
随着高科技产品的民用化普及,从前仅在飞行器的驾驶座舱内使用的场致发光技术现已广泛运用于民用手持设备上,在手机、传呼机、无绳电话、个人数字助 理、遥控器等产品上,由于el背光方式具
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229944.html2011/7/17 23:27:00
料生产中得到广泛应用。日本科学家nakamura将mocvd应用氮化镓材料制备,利用他自己研制 的mocvd设备(一种非常特殊的反应室结构),于1994年首先生产出高亮度蓝光和绿光发
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小,成本低,发光响应快等优点。因此在显示器件和短距离、低速率的光纤通信用光源等方面有广泛的应用,特别是近年来蓝色、紫色及紫外led的迅速发展,使led在照明领域取代白炽灯和荧光灯成
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