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GaN倒装焊led芯片的光提取效率模拟与分析

研究结果表明:采用较厚的蓝宝石衬底喝引入ain缓冲层均有利于led光提取效率的提高。

  https://www.alighting.cn/resource/20141027/124165.htm2014/10/27 11:29:03

p层厚度对siGaN垂直结构led出光的影响

利用金属有机化学气相沉积(mocvd)法在si衬底上生长了一系列具有不同p层厚度d的ingan/gan蓝光led薄膜并制备成垂直结构发光二极管(vleds),研究了p层厚度即p面金

  https://www.alighting.cn/resource/20130403/125768.htm2013/4/3 10:40:48

GaN蓝光led外延材料转移前后性能

利用外延片焊接技术,把si(111)衬底上生长的GaN蓝光led外延材料压焊到新的si衬底上.在去除原si衬底和外延材料中缓冲层后,制备了垂直结构GaN蓝光led.与外延材料未转

  https://www.alighting.cn/resource/20130422/125688.htm2013/4/22 13:10:12

采用光子晶体结构GaNled 光通量提高42%

阿尔卑斯电气开发出了采用光子晶体结构、将光通量提高了约42%的GaN类led,并在“alps show 2008”(2008年9月25~26日)上展出。发光波长为510.7n

  https://www.alighting.cn/news/20081006/119664.htm2008/10/6 0:00:00

GaN低色温高显色白光led

采用440nm短波长inGaN/GaN蓝光led芯片激发高效红、绿荧光粉制得高显色性白光led,研究了不同胶粉配比对klv发光性能的影响。

  https://www.alighting.cn/2015/1/26 14:58:55

si衬底GaNled外延薄膜转移至金属板的应力变化

采用电镀金属板及湿法腐蚀衬底的方法将硅衬底上外延生长的GaNmqwled薄膜转移至不同结构的金属板,通过高分辨x射线衍射(hrxrd)和光致发光(pl)研究了转移的GaN

  https://www.alighting.cn/resource/20111025/126968.htm2011/10/25 13:48:12

蓝宝石衬底的图形化技术在GaNled上的应用

针对于目前蓝光led所使用的蓝宝石衬底存在以下两个问题,蓝宝石和GaN存在着17%的晶格不匹配,直接在蓝宝石衬底上生长出来的外延缺陷严重。出光效率低下,大部分光被限制在led芯片

  https://www.alighting.cn/resource/20120314/126667.htm2012/3/14 13:45:14

高光效GaNled芯片技术研究进展

附件为论坛嘉宾的演讲内容《高光效GaNled芯片技术研究进展》pdf,欢迎大家下载学习!

  https://www.alighting.cn/resource/20160615/141191.htm2016/6/15 14:06:06

激光剥离技术实现垂直结构GaN led

为改善GaN 发光二极管( light??emitting diode, led) 的电学特性和提高其输出光功率, 采用激光剥离技术, 在krf 准分子激光器脉冲激光能量密度

  https://www.alighting.cn/resource/2012/4/11/101149_25.htm2012/4/11 10:11:49

GaN外延片中载流子浓度的纵向分布

采用适合宽禁带半导体材料的电化学电容电压(ecv)分析仪,对掺硅GaN外延片用硫酸逐层进行了精密腐蚀后,在此础上得到了在进口mocvd设备上生产的GaN外延片的载流子浓度纵

  https://www.alighting.cn/resource/20131029/125182.htm2013/10/29 10:01:55

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