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揭密:美国大力投入oled照明研发(图)

样的研究计划和目

  https://www.alighting.cn/news/2009112/V18579.htm2009/1/12 10:12:48

退火温度及退火气氛对zno薄膜的结构及发光性能的影响(英文)

采用脉冲激光沉积技术在si/蓝宝石衬底上制备了zno薄膜,结合快速退火设备研究了不同退火温度(500~900℃)及退火气氛(n2,o2)对薄膜的结构及其发光性能的影响。并优化条

  https://www.alighting.cn/2013/5/28 11:06:49

纤锌矿gan柱形量子点中类氢施主杂质态

在有效质量近似和变分原理的基础上,选取含两个变分参数的波函数,研究了纤锌矿结构的gan/alxga1-xn单量子点中类氢施主杂质体系的结合能随量子点(qd)尺寸以及杂质在量子点

  https://www.alighting.cn/2013/5/24 10:08:12

led封装生产中自动测试与分拣设备的研制

本文介绍了国内led封装生产企业对自动测试与分拣设备的需求情况,分析了led自动测试与分拣设备的光机电一体化系统构架设计,光色电参数的高速高精度检测技术,设备可靠性研究与设备成

  https://www.alighting.cn/2013/5/17 10:27:28

福建省地矿实验测试大楼照明设计详解

福建省地矿实验测试大楼为一类高层综合楼,建筑层数为地上16层,主要功能为办公、研究工作室及配套设施;地下1层,主要功能为六级人防平战结合国库及设备用房。建筑高度为56米,地上建

  https://www.alighting.cn/case/20160603/42536.htm2016/6/3 13:37:53

过渡层对ge衬底gaas外延层晶体质量的影响

利用低压金属有机化学汽相淀积(mocvd)设备在ge衬底上生长gaas外延层。通过改变gaas过渡层的生长温度对gaas外延层进行了表征,利用扫描电镜(sem)和x射线衍射仪研

  https://www.alighting.cn/2013/5/8 14:41:44

德科学家研制出世界上最快的硅芯片

德国卡尔斯鲁尔大学日前宣布,该校的一个国际研究小组成功研制出目前世界上最快的超速硅芯片,这种芯片可以同时处理260万个电话数据,其运算速度是目前记录保持者英特尔芯片的4倍。

  https://www.alighting.cn/news/2009519/V19759.htm2009/5/19 9:26:50

氧分压对pld制备zno薄膜结构和发光性质的影响

采用脉冲激光沉积(pld)技术,在si(100)衬底上制备出高度c轴取向的zno薄膜。通过x射线衍射(xrd)谱,扫描电镜(sem)和室温光致发光(pl)光谱的测量,研究了生长气

  https://www.alighting.cn/2013/5/7 11:24:11

5国外企业试制出可弯曲oled照明面板

比利时agfa-gevaert nv、荷兰飞利浦研究所(philips research)、荷兰holstcentre、比利时imec及荷兰tno宣布,试制出了用高导电性透明树

  https://www.alighting.cn/news/2009416/V19422.htm2009/4/16 9:52:31

大功率led灯新型散热结构的设计与开发

大功率led是一种新型半导体固体光源。随着led功率的增大,led芯片散发的热量越来越多,led的散热问题越来越突出。本文的目的是研究大功率白光led的散热问题,并为其设计散热

  https://www.alighting.cn/resource/20130415/125726.htm2013/4/15 11:36:37

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