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通过大电流时效率也不易下降的led技术“ux:3”

ux:3在led芯片内部设置了向芯片表面内扩展的n型接触层。从该n型接触层起,通过数十个通孔(芯片尺寸为1mm见方时),向芯片表面上的n型GaN类半导层进行电气连接。这样一来,便

  https://www.alighting.cn/resource/20101013/128355.htm2010/10/13 0:00:00

诺贝尔物理学奖越来越接近“电子奖”

而本届诺贝尔物理学奖的核心是,开发出了蓝色led使用的氮化镓(GaN)晶体的制作技术。虽然该技术开发出来后对社会的影响极大,但不能说因为可以制作出这种晶体,物理学方面的理论研究就

  https://www.alighting.cn/news/20141015/86800.htm2014/10/15 11:35:22

矽衬底led芯片产业现状探究

体公司研发GaN衬底的led同质外延技术,美国普瑞光电公司、欧司朗osram、韩国三星、日本东芝等众多公司在开发矽衬底GaN基led技

  https://www.alighting.cn/news/20121128/89354.htm2012/11/28 14:08:33

台湾半导体照明产业发展现状解析

近年来在半导体前段晶圆制程设备部分,晶圆制造业者,如台积电、联电等基于制造成本与服务效率的考量,对于设备耗材零组件的本土化已逐渐凝聚共识,起而推动并订立自身本土化目标,台湾le

  https://www.alighting.cn/news/2014528/n576262613.htm2014/5/28 14:38:47

cfl全新照明方案:smc2153s镇流器ic替代ir2520

台湾原厂供应8寸台系mos管晶圆,良率大损耗小。裸片尺寸大是市面上的2~3倍,可大大的降低成本,更可节约能源以及水资源。从机器和工艺上讲我们全部采用8寸工艺生产制造,取代市场上

  http://blog.alighting.cn/152441/archive/2012/11/21/299431.html2012/11/21 14:20:18

led的外延片生长技术

且和衬底分离的GaN薄膜有可能成为体单晶GaN芯片的替代品。hvpe的缺点是很难精确控制膜厚,反应气体对设备具有腐蚀性,影响GaN材料纯度的进一步提高。3.选择性外延片生长或侧向外

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229948.html2011/7/17 23:29:00

plessey推新一代硅基氮化镓led光效可达64lm/w

锯成晶圆裸片形式的蓝光plb01005

  https://www.alighting.cn/pingce/20131203/121664.htm2013/12/3 12:01:29

确保高亮led精度与性价比的方法

精确而高性价比的测试对于确保led器件的可靠性和质量至关重要。led测试在生产的不同阶段具有不同类型的测试序列,例如设计研发阶段的测试、生产过程中的晶圆级测试、以及封装后的最终测

  https://www.alighting.cn/resource/2012/4/11/11256_84.htm2012/4/11 11:25:06

东芝正式宣布8吋矽基板led将于10月量产

晶圆厂,预定于2012年10月开始量

  https://www.alighting.cn/pingce/20120726/122450.htm2012/7/26 11:17:51

veeco推出三款新系列氮化镓mocvd设备

这些新设备均支持2英寸、4英寸、6英寸以及8英寸晶圆生长。现有的max bright和k465i设备都能很容易地现场升级到高性能版。所有veeco的mocvd设备都拥有维护需求

  https://www.alighting.cn/pingce/20120628/122456.htm2012/6/28 11:04:57

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