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mocvd技术在光电薄膜中的应用

mocvd技术在半导体材料和器件及薄膜制备方面取得了巨大的成功。尽管如此,mocvd仍是一种发展中的半导体超精细加工技术,mocvd技术的进一步发展将会给微电子技术和光电子技术带

  https://www.alighting.cn/resource/20130228/125982.htm2013/2/28 10:33:06

led芯片的技术和应用设计知识

较于白炽灯、紧凑型荧光灯等传统光源,发光二极管(led)具有发光效率高、寿命长、指向性高等诸多优势,日益受到业界青睐而被用于通用照明(general lighting)市场。led

  https://www.alighting.cn/resource/20130222/126022.htm2013/2/22 11:47:20

用于微机电系统的类金刚石膜制备及表征

采用等离子体源离子注入和电子回旋共振-微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在si衬底上制备出子性能良好的类金剐石膜.通过共聚焦raman光谱验证亍薄膜的类金刚石特性,用原

  https://www.alighting.cn/2013/2/1 14:17:59

氧气流量对脉冲激光沉积zno薄膜的形貌及光学性质影响

使用脉冲激光沉积(pld)方法在石英(sio2)和单晶si(111)基底上制备了具有高c轴择优取向的zno薄膜。测试结果显示:在30~70sccm氧气流量范围内,氧气流量5

  https://www.alighting.cn/resource/20130128/126105.htm2013/1/28 13:14:42

采用mocvd方法在gaas衬底上生长zno(002)和zno(100)薄膜

采用金属有机化学汽相沉积生长法(mocvd),在不同的衬底表面处理条件和生长温度下,在gaas衬底上生长出了zno薄膜。随着化学腐蚀条件的不同,可生长出优先定位不同的zno(10

  https://www.alighting.cn/resource/20130123/126124.htm2013/1/23 14:41:54

不同衬底温度下pld 法制备的氧化锌薄膜的特性

利用gcr170型脉冲激光器nd:yag 的三次谐波(355nm),以蓝宝石al2o3(0001)为衬底,在不同温度下采用脉冲激光沉积法制备了zno 薄膜.通过原子力显微镜

  https://www.alighting.cn/resource/20130123/126125.htm2013/1/23 14:07:10

不同衬底生长zno薄膜的结构与发光特性研究

采用射频磁控溅射方法分别在蓝宝石(al2o3)(0001)和硅(100)衬底上制备zno薄膜.通过x-光衍射测量与分析表明两者都沿c轴方向生长,在al2o3衬底上的zno薄膜

  https://www.alighting.cn/resource/20130123/126126.htm2013/1/23 13:45:44

玻璃和柔性衬底上氧化铟锡薄膜特性的对比研究

对采用磁控溅射方法生长在玻璃和柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)塑料上的氧化铟锡(ito)薄膜的结构、光学和电学特性进行了对比研究。实验结果证明,完全可以采用磁控溅射的方法在柔性

  https://www.alighting.cn/resource/20130123/126128.htm2013/1/23 10:29:32

zno的用途及其薄膜的制备方法

阐述了zno薄膜材料的结构特点、电学性质和光学特性,详细介绍了各种制备氧化锌薄膜的方法,包括磁控溅射法、化学气相沉积法、喷雾热解法、溶胶-凝胶法、激光脉冲沉积法、分子束外延法、原

  https://www.alighting.cn/2013/1/23 10:04:19

zno薄膜微结构变化对光电特性的影响

利用pld方法沉积了si基zno薄膜,通过结构和电学特性的测量,研究了在o2气氛下退火温度对zno薄膜微结构的改善。研究得到:o2气氛下700℃退火,zno薄膜中出现施主深能级局

  https://www.alighting.cn/2013/1/22 17:55:42

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