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生长温度对sizno薄膜结构的影响

通过脉冲激光沉积方法在1.3pa氧氛围,100-500℃温度,si(111)上成功地制备了zno薄膜,我们用x射线衍射(xrd)谱,原子力显微镜(afm),透射电镜(te

  https://www.alighting.cn/resource/20130515/125605.htm2013/5/15 11:28:09

硫化锌薄膜发光器件的研制

用双舟热蒸发技术在硅上制备硫化锌电致发光薄膜,用xrd、xps技术和电致发光谱分析技术,研究该薄膜的微结构与发光特性.发现硅上硫化锌薄膜与硫化锌粉末在晶体结构上存在差

  https://www.alighting.cn/resource/20130514/125608.htm2013/5/14 11:12:06

生长温度对6h-sic上sicge薄膜发光特性的影响

利用低压化学气相淀积工艺在6h-sic成功制备了sicge薄膜。通过光致发光(pl)谱研究了生长温度对sicge薄膜发光特性的影响。结果表明:生长温度为980,103

  https://www.alighting.cn/2013/5/10 11:36:06

过渡层对gegaas外延层晶体质量的影响

利用低压金属有机化学汽相淀积(mocvd)设备在ge上生长gaas外延层。通过改变gaas过渡层的生长温度对gaas外延层进行了表征,利用扫描电镜(sem)和x射线衍射仪研

  https://www.alighting.cn/2013/5/8 14:41:44

氧分压对pld制备zno薄膜结构和发光性质的影响

采用脉冲激光沉积(pld)技术,在si(100)上制备出高度c轴取向的zno薄膜。通过x射线衍射(xrd)谱,扫描电镜(sem)和室温光致发光(pl)光谱的测量,研究了生长气

  https://www.alighting.cn/2013/5/7 11:24:11

条形叉指n阱和p结的硅led设计及分析

采用0.35μm双栅标准cmos工艺最新设计和制备了叉指型siled发光器件。器件结构采用n阱和p结,n阱为叉指结构,嵌入到p中而结合成sipn结led。观察了sile

  https://www.alighting.cn/2013/4/28 10:30:13

宽禁带半导体sic和zno的外延生长及其掺杂的研究

面有着巨大的应用潜力。然而,sic单晶价格昂贵,这就促使人们继续探讨在si上异质外延sic薄

  https://www.alighting.cn/resource/20130427/125659.htm2013/4/27 15:02:15

mocvd外延al_2o_3基algan/gan超晶格的结构和光学特性

3)上生长的algan/gan超晶格材料的微观结构、光吸收性质和发光特性。x射线衍射结果表明,gan基材料均为纤锌矿六方结构,薄膜具有良好的结晶质量,薄膜生长沿c轴择优取

  https://www.alighting.cn/resource/20130423/125683.htm2013/4/23 10:59:17

硅基gan蓝光led外延材料转移前后性能

利用外延片焊接技术,把si(111)上生长的gan蓝光led外延材料压焊到新的si上.在去除原si和外延材料中缓冲层后,制备了垂直结构gan蓝光led.与外延材料未转

  https://www.alighting.cn/resource/20130422/125688.htm2013/4/22 13:10:12

mocvd法生长ga、p掺杂的zno薄膜

采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石上制备ga、p掺杂的zno薄膜,分别采用x射线衍射、扫描电子显微镜、霍尔效应测试、光致发光谱对样品进行表征。通过ga、p掺杂分别得到n、p

  https://www.alighting.cn/2013/4/19 13:20:29

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