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mocvd法制备cu掺杂zno薄膜

本文采用mocvd法在c-al2o3 上生长本征zno和cu掺杂zno薄膜,利用cu(tmhd)为cucu?掺杂源,通过控制cu源温度(tcu)来控制cu掺杂条件,并利用x射

  https://www.alighting.cn/2014/12/17 11:43:13

用于微机电系统的类金刚石膜制备及表征

采用等离子体源离子注入和电子回旋共振-微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在si上制备出子性能良好的类金剐石膜.通过共聚焦raman光谱验证亍薄膜的类金刚石特性,用原

  https://www.alighting.cn/2013/5/30 10:01:53

宽禁带半导体sic和zno的外延生长及其掺杂的研究

面有着巨大的应用潜力。然而,sic单晶价格昂贵,这就促使人们继续探讨在si上异质外延sic薄

  https://www.alighting.cn/resource/20130427/125659.htm2013/4/27 15:02:15

【有奖征稿】高亮度高纯度白光led封装技术研究

析,可知在蓝宝石和环氧树脂的界面间涂敷一层硅橡胶能改善光的折射率。改进光学器件的封装技术,可以大幅度提高大功率led的出光率(光通

  https://www.alighting.cn/2013/4/10 13:07:29

si掺杂zno薄膜的制备及光学性质的研究

实验利用磁控溅射方法,采用zno陶瓷靶,以石英为,制备了不同si掺杂浓度的样品,并在氧气氛下对样品做了不同温度的快速退火和随炉温自然退火处理,为了对比,实验采用了同样的制备方

  https://www.alighting.cn/2011/10/17 13:48:48

蓝紫光ingan多量子阱激光器

在(0001)蓝宝石上外延生长了ingan长周期多量子阱激光器结构.三轴晶x射线衍射测量显示该多量子阱结构质量优良.用该外延片制作了脊形波导gan激光器,激光器的腔面为ga

  https://www.alighting.cn/resource/20110909/127172.htm2011/9/9 8:46:06

退火对用pld法制备zno薄膜的发光影响

用脉冲激光沉积(pld)方法在si(111)和蓝宝石上制备的氧化锌薄膜,在不同的退火温度和不同的退火氛围中进行了退火处理.退火温度及退火氛围对zno薄膜的结构和发光特性的影响

  https://www.alighting.cn/resource/20110906/127191.htm2011/9/6 14:09:53

功率型led中的光学与热学问题

热对流;sapphire材料极低的热导率导致器件热阻增加,产生严重的自加热效应,对器件的性能和可靠性产生毁灭性的影

  https://www.alighting.cn/resource/20110905/127197.htm2011/9/5 14:38:54

蓝宝石上aln基板的mocvd外延生长

结合aln成核缓冲层技术和nh3流量调制缓冲层方法,采用mocvd在(0001)面蓝宝石上生长了aln基板,用扫描电镜、原子力显微镜及x射线衍射仪对样品进行了表征,结果表明基

  https://www.alighting.cn/resource/20110902/127209.htm2011/9/2 17:16:23

生长温度对ingan/gan多量子阱led光学特性的影响

利用低压mocvd系统,在蓝宝石上外延生长了ingan/gan多量子阱蓝紫光led结构材料。研究了生长温度对有源层ingan/gan多量子阱的合金组分、结晶品质及其发光特

  https://www.alighting.cn/resource/20110425/127697.htm2011/4/25 11:47:08

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