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led晶圆技术的未来发展趋势

量的晶格缺陷,从而进一步提高gan晶圆层的晶体质量。首先在合适的衬底 上( 6h-Sic或Si)采用两步制程生长gan晶圆层。然后对晶圆膜进行选区刻蚀,一直深入到衬底。这样就形

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229928.html2011/7/17 23:20:00

gan外延片的主要生长方法

质分别为tmga、tega、tmin、tmal、ph3与ash3。通过掺Si或掺 te以及掺mg或掺zn生长n型与p型薄膜材料。对于ingaalp薄膜材料生长,所选用的iii族元

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229933.html2011/7/17 23:23:00

金属有机化学汽相淀积(mocvd)技术

本底杂质浓度进一步降低(一般达到1015cm-3)。由远红外光电导和光致发光研究表明,主要残留杂质是Si、 ge、c和zn。(4)、n型p型外延层用的掺杂源的控制气体源:h2s、h

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229936.html2011/7/17 23:24:00

外延生长技术概述

长出具有特定组分,特定厚度,特定电学和光学参数的半导体薄膜外延材料。iii族与v族的源物质分别为tmga、tega、tmin、tmal、ph3与ash3。通过掺Si或掺te以及掺m

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229947.html2011/7/17 23:29:00

功率型led的封装技术

“golden dragon led”我国台湾uec 公司(国联)采用金属键合(metal bonding) 技术封装的mb 系列大功率led,其特点是用Si 代替gaas 衬底,散

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229961.html2011/7/17 23:36:00

基于avr的led数字大屏幕的设计与实现

5的数据输入端。rck、sck的并联的使用的目的是为了实现led字符的同步显示。在线路连接中q`h必须连接Si,因为根据74hc595的特性,如果输入的数据数大于8,那么前面的数

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/20/230480.html2011/7/20 23:11:00

[原创]承建汗蒸房盐屋、盐屋、帕克森盐屋、汗蒸房、养生馆

  5、含有多种矿物质(mg、fe、b。Si、ca等),有效调节人体营养素的平衡;    6、以活化细胞为基础,以治“本”为主,综合调节,具有预防疾病和辅助治疗的作用。 盐

  http://blog.alighting.cn/lightsalt/archive/2011/8/1/231405.html2011/8/1 10:20:00

基于avr的led数字大屏幕的设计与实现

据输入端。rck、sck的并联的使用的目的是为了实现led字符的同步显示。在线路连接中q`h必须连接Si,因为根据74hc595的特性,如果输入的数据数大于8,那么前面的数据将会被自

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/8/18/232669.html2011/8/18 1:24:00

led芯片的技术发展状况

掉原来用于生长外延层的衬底,然后将外延层键合转移倒导电和导热性能良好热导率大的衬底上,如铜、铝、金锡合金、氮化铝等。键合可用合金焊料如ausn、pbsn、in等来完成。Si的热导率

  http://blog.alighting.cn/magicc/archive/2011/8/20/233173.html2011/8/20 0:23:00

深入探讨:2009led照明技术及发展趋势

型芯片产业化水平达到80-90lm/w,更加接近国际产业化水平,在衬底设备、外延生产、芯片工艺等方面掌握了一批具有自主知识产权的技术,如Si衬底芯片光效达到70lm/w。  在200

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