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外延生长技术概述

光二极管,1998年实现了室温下连续激射10,000小时,取得了划时代的进展。到目前为止,mocvd是制备氮化镓发光二极管和激光外延片的主流方法,从生长的氮化镓外延片和件的性

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半导体照明灯具系统设计概述

只led管子配光分布控制十分重要。由于led发出的光束集中,更易于控制,且不需要反射聚光,有利于减少灯具的深度。例如,利用平面镜光学系统,可以只用1~2个led就可照亮很大的表

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分析el背光驱动工作原理

有体积孝重量轻、温度低、耗电少、无闪烁、发光均匀等特性,现已逐渐取代传统的led背光方式。el 背光系统是由el灯片和el驱动组成。el灯片的厚度一般小于0.2mm,是由绝缘基

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led背光与无彩色滤光片技术

当前平面显示产业蓬勃发展,显示技术日新月异,液晶显示(liquid crystal display,lcd)以量产规模而论,稳居平面显示技术主流地位,然而,其它显示技术,诸

  http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229940.html2011/7/17 23:26:00

静电在led显示屏生产过程中的危害及防护措施

件的永久性损坏。大家熟知,led是半导体产品,如果led的两个针脚或更多针脚之间的电压超过元件介质的击穿强度,就会对元件造成损坏。氧化层越薄,则led和驱动ic对静电的敏感性也就越

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发光二极管封装结构及技术

右,封装散热;时保持色纯度与发光强度非常重要,以往多 采用减少其驱动电流的办法,降低结温,多数led的驱动电流限制在20ma左右。但是,led的光输出会随电流的增大而增加,目前,很

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sed显示技术

sed的构造及其优势sed的全称是“surface-conduction electron-emitter display”,译成中文就是“表面传导电子发射显示”。下图是se

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el显示(薄膜型电致发光显示)技术

盟rohs指令的要求。输入电压通常为12 vdc,对于电池驱动的便携式应用和车载应用,某些型号el显示还支持很宽的输入电压范围。只有el显示技术能够提供透明显示,或切割为曲线形状。通

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led背光与无彩色滤光片技术

当前平面显示产业蓬勃发展,显示技术日新月异,液晶显示(liquid crystal display,lcd)以量产规模而论,稳居平面显示技术主流地位,然而,其它显示技术,诸

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金属有机化学汽相淀积(mocvd)技术

期才逐渐成熟和完善起来。esaki 60年代提出超晶格的设想也直到80年代才得到大量应用。量子阱激光就是最好的例证。mocvd制造技术在80年代末90年代初得到突飞猛进的发展,随

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