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al_2o_3/si(001)衬底上GaN外延薄膜的制备

利用低压金属有机物化学气相沉积方法在al2 o3 /si( 0 0 1 )衬底上制备出了六方结构的GaN单晶薄膜 .厚度为 1 .1 μm的GaN薄膜的 ( 0 0 0 2 )

  https://www.alighting.cn/resource/20110815/127311.htm2011/8/15 17:59:24

蓝宝石图形衬底上生长GaN的微区拉曼光谱研究

采用微区拉曼光谱对生长在湿法腐蚀获得的无掩膜周期性图形蓝宝石衬底上GaN材料做了研究,结果显示,侧向外延生长区域具有较低的压应力。采用湿法腐蚀结合原子力显微镜对材料的位错进行了表

  https://www.alighting.cn/resource/20110721/127408.htm2011/7/21 17:03:55

氮化铝薄膜改善led散热性能的研究

研究了氮化铝薄膜对 led 灯散热情况的影响,并与导热硅脂(ks609)涂层的散热效果进行了比较, 结果表明:导热涂层能加强 led 的散热,氮化铝薄膜散热效果优于导热硅脂;对红

  https://www.alighting.cn/resource/20130304/125968.htm2013/3/4 13:53:37

蓝宝石/氮化铝衬底上sic外延薄膜的x射线衍射分析

介绍了在蓝宝石 /氮化铝复合衬底上外延生长碳化硅薄膜材料的工艺技术 .通过在蓝宝石衬底上预淀积一层薄的氮化铝缓冲层使碳化硅薄膜的成核和黏附性得到很大的改善 .用多种x光衍射方法对

  https://www.alighting.cn/resource/20110726/127393.htm2011/7/26 18:35:12

东京大学研发超大尺寸GaN led取得进展

东京大学生产技术研究所教授藤冈洋的研究组与神奈川科学技术研究院(kast)宣布,共同开发出了在柔性底板上形成由氮化GaN)构成的led技术。由于制造方法采用的是易于支持大面

  https://www.alighting.cn/resource/20080229/128588.htm2008/2/29 0:00:00

p型GaN欧姆接触的研究进展

宽带隙的GaN作为半导体领域研究的热点之一,近年来发展得很快。p型GaN的欧姆接触问题一直阻碍高温大功率GaN基器件的研制。本文讨论了金属化方案的选择、表面预处理和合金化处理等几

  https://www.alighting.cn/2011/10/20 13:36:53

GaN的极性特征、测量及应用

GaN在 (0 0 0 1)方向是一种极性极强的半导体材料 ,它具有极强的表面特征 ,是目前发现的最好的压电材料 ,而GaN的极性呈现出体材料的特征 ,它的测量要用一些特殊的方

  https://www.alighting.cn/resource/20110423/127701.htm2011/4/23 18:39:53

新型电极材料石墨烯在led中的应用

近年来,氮化基发光二极管迅猛发展,它具有高亮度、低能耗、长寿命的优良特点,是发展固态照明技术的关键元器件。目前在GaN基led中,氧化铟锡由于其高电导率和高透光率,已成为le

  https://www.alighting.cn/resource/20140529/124545.htm2014/5/29 14:39:49

GaN基材的3种特性

GaN是极稳定、坚硬的高熔点材料,熔点约为1700℃,GaN具有高的电离度,在ⅲ—ⅴ族化合物中是最高的(0.5或0.43)。在大气压力下,GaN晶体一般是六方纤锌矿结构。

  https://www.alighting.cn/resource/20110331/127800.htm2011/3/31 14:58:54

mocvd生长GaNGaN:mg薄膜的对比研究

对在sic衬底上采用mocvd方法制备的GaNGaN:mg薄膜进行x射线衍射、扫描电镜和拉曼散射光谱进行了对比研究。

  https://www.alighting.cn/resource/20141223/123875.htm2014/12/23 11:11:59

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