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基于si衬底的功率型gan基led制造技术

si衬底led芯片制造工艺   si衬底led封装技术   解决方案:   采用多种在线控制技术   通过调节P型层镁浓度结构   采用多层金属结构   1993年世

  http://blog.alighting.cn/zhiyan/archive/2011/1/12/127090.html2011/1/12 17:23:00

美国cree led q2 q3 q4 q5

w (P3,P4)3、正常工作电流:350ma-700ma, 700ma工作时光通量是350ma工作时的1、65倍,最大支持1000ma 4、典型电压值3、3v(350ma),3、75

  http://blog.alighting.cn/andylau88645/archive/2009/8/13/10198.html2009/8/13 18:06:00

cree led

w (P3,P4)3、正常工作电流:350ma-700ma, 700ma工作时光通量是350ma工作时的1、65倍,最大支持1000ma 4、典型电压值3、3v(350ma),3、75

  http://blog.alighting.cn/andylau88645/archive/2009/8/13/10199.html2009/8/13 18:07:00

供应高压贴片电容,贴片安规电容

规格主要有:1812封装 3kv 100P 220P 330P 470P 1000P…(无极灯电源专用,代替红色cbb)0805/1206/1210封装 500-1kv 47

  http://blog.alighting.cn/s415998493/archive/2011/6/27/227840.html2011/6/27 10:38:00

led 光源的特点

早应用半导体 P-n 结发光原理制成的 led 光源问世于 20 世纪 60 年代初。当时所用的材料是 gaasP ,发红光( λ P =650nm ),在驱动电流为 20 毫安

  http://blog.alighting.cn/175310/archive/2013/5/15/317211.html2013/5/15 10:53:53

[原创]【3.15晒产品】单相插头插座量规

共包含 gb1003-2008图1三相插头16a(16个点)1件gb1003-2008图1三相插头25a(16个点)1件gb1003-2008图1三相插头36a(16个点)1

  http://blog.alighting.cn/alexzdj/archive/2011/3/12/140395.html2011/3/12 13:27:00

硅衬底led芯片主要制造工艺

n缓冲层→生长n型gan→生长ingan/gan多量子阱发光层→生长P型aigan层→生长P型gan层→键合带ag反光层并形成P型欧姆接触电极→剥离衬底并去除缓冲层→制作n型掺si

  http://blog.alighting.cn/qq367010922/archive/2010/12/14/120857.html2010/12/14 21:43:00

世界照明时报:我们这样影响行业

世界照明时报:我们这样影响行业 ■黄河 2月16日 世界照明时报战略发展研讨会 2009年2月16日。这是一个发轫点,就像一年前《世界照明时报》诞生一样。她理

  http://blog.alighting.cn/412165938/archive/2009/10/19/7148.html2009/10/19 10:15:00

名企工资表

样, 奖金要看项目。 荷兰国际ing:有一个base在香港的培训项目,是local Pay+global relocation P ackage的形式,总额比一般投行都高(约70

  http://blog.alighting.cn/hermanlee/archive/2009/8/28/10279.html2009/8/28 10:05:00

led电子显示屏

体。 专业厂家承接全国各地区生产,施工,服务,售后各类型led显示屏及城市亮化工程。 物理点间距 16mm 物理密度 3906点/m2 发光点颜色 2r1g1b 最佳视

  http://blog.alighting.cn/hanzhu148/archive/2010/3/2/34749.html2010/3/2 16:41:00

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