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N,可用于这些质量不高的gaN晶体的缺陷检测。gaN在hcl或h2气下,在高温下呈现不稳定特性,而在N2气下最为稳定。2.2gaN的结构特性表1列出了纤锌矿gaN和闪锌矿gaN的特
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体,常温下的电阻率大于1011ω?;cm,在这种情况下无法制作垂直结构的器件;通常只在外延层上表面制作N型和p型电极(如图1所示)。在上表面制作两个电极,造成了有效发光面积减少,同
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/18/230089.html2011/7/18 23:27:00
上标明的极性接好电线:火线接“l”位,零线接“N”位,地线接到接地位。5、Nsc9730防眩通路灯合上电气箱盖,将三颗螺钉拧紧,再将电缆线另一端接通220v电源即可照明。 四、Ns
http://blog.alighting.cn/rpmayfm/archive/2011/7/18/230063.html2011/7/18 16:16:00
部的电缆引入孔引进灯腔内,根据灯具内接线座上标明的极性接好电缆线(火线接“l”位,零线接“N”位,地线接到接地位),接好线后用电线压片压紧电缆线。 3、blc9600道路灯将灯杆插
http://blog.alighting.cn/rpmayfm/archive/2011/7/18/230061.html2011/7/18 16:14:00
池板的基本荷载为730N。考虑1.3的安全系数,f = 1.3×730 = 949N。所以,m = f×1.545 = 949×1.545 = 1466N.m。根据数学推导,圆环
http://blog.alighting.cn/q89481240/archive/2011/7/17/229966.html2011/7/17 23:39:00
为mocvd技术是以iN有机源为金属源,以N2作为载气,Nh3作为氮源,通过二步制程或其它手段在低温500℃左右进行iNN生长。mocvd的生长速度适中,可以比较精确地控制外延薄
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度适合。?ゼbr②可获得电导率高的p型和N型材料。③可获得完整性好的优质晶体。④发光复合几率大。外延技术与设备是外延片制造技术的关键所在,金属有机物化学气相淀
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及 技术要求,无法简单地将分立器件的封装用于led。led的核心发光部分是由p型和N型半导体构成的pN结管芯,当注入pN结的少数载流子与多数载流子复合时,就会发出可见光,紫外 光或
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→窗口图形光刻→sio2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→p极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。其实外延片的生产制作过程是非常复杂的,在展完外延片
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底杂质浓度。若生长温度降低,则外延层的载流子浓度也随之下降;提高as/ga比,则有可能引起材料的导电类型从p型转向N型。(3)、金属有机物和ash3的纯度反应物质的纯度将严重地限制
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