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面的gaas使P-n接面散发出的光有一半被遮挡吸收,造成光能的浪费,因此改用透明的gaP材料来做基板。又如日本日亚化学工业(nichia)在gan的led中,将P型电极(P tyPe)部
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荧光粉早在20世纪60年代就已被研制出来,并且被应用于阴极射线飞点扫描管中(阴极射线荧光粉的牌号为P46),它主要是利用该荧光粉的超短余辉(0.1μsec)特性和亮度特性。后
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与gan有些相似,但在inn中这个问题更加严重。inn的费米稳定能级eb在导带里面,这就意味着在inn中即使电子浓度升高,费米能级增大,也很难形成P型的本征补偿缺陷,这就使得电子饱
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度适合。?ゼbr②可获得电导率高的P型和n型材料。③可获得完整性好的优质晶体。④发光复合几率大。外延技术与设备是外延片制造技术的关键所在,金属有机物化学气相淀
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及 技术要求,无法简单地将分立器件的封装用于led。led的核心发光部分是由P型和n型半导体构成的Pn结管芯,当注入Pn结的少数载流子与多数载流子复合时,就会发出可见光,紫外 光或
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→窗口图形光刻→sio2腐蚀→去胶→n极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。其实外延片的生产制作过程是非常复杂的,在展完外延片
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底杂质浓度。若生长温度降低,则外延层的载流子浓度也随之下降；提高as/ga比,则有可能引起材料的导电类型从P型转向n型。(3)、金属有机物和ash3的纯度反应物质的纯度将严重地限制
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术相对成熟；不足方面虽然很多,但均一一被克服,如很大的晶格失配被过渡层生长技术所克服,导电性能差通过同侧P、n电极所克服,机械性能差不易切割通过激光划片所克服,很大的热失配对外延
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至适当温度的gaas衬底基片上,气态物质in,ga,al,P有控制的输送到gaas衬底表面,生长出具有特定组分,特定厚度,特定电学和光学参数的半导体薄膜外延材料。iii族与v族的源物
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外延生长的基本原理是：在一块加热至适当温度的衬底基片(主要有蓝宝石和sic,si)上,气态物质in,ga,al,P有控制的输送到衬底表面,生长出特定单晶薄膜。目前led外延片生
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