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P型gan欧姆接触的研究进展

宽带隙的gan作为半导体领域研究的热点之一,近年来发展得很快。P型gan的欧姆接触问题一直阻碍高温大功率gan基器件的研制。本文讨论了金属化方案的选择、表面预处理和合金化处理等几

  https://www.alighting.cn/2011/10/20 13:36:53

mocvd法生长ga、P掺杂的zno薄膜

采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石衬底上制备ga、P掺杂的zno薄膜,分别采用x射线衍射、扫描电子显微镜、霍尔效应测试、光致发光谱对样品进行表征。通过ga、P掺杂分别得到n、P

  https://www.alighting.cn/2013/4/19 13:20:29

P层厚度对si基gan垂直结构led出光的影响

利用金属有机化学气相沉积(mocvd)法在si衬底上生长了一系列具有不同P层厚度d的ingan/gan蓝光led薄膜并制备成垂直结构发光二极管(vleds),研究了P层厚度即P

  https://www.alighting.cn/resource/20130403/125768.htm2013/4/3 10:40:48

条形叉指n阱和P衬底结的硅led设计及分析

采用0.35μm双栅标准cmos工艺最新设计和制备了叉指型siled发光器件。器件结构采用n阱和P衬底结,n阱为叉指结构,嵌入到P衬底中而结合成siPn结led。观察了sile

  https://www.alighting.cn/2013/4/28 10:30:13

P型透明导电cu-al-o薄膜的制备与光电性能研究

本文采用cu靶和al靶直流共溅射法制备出P型透明导电cu-al-o薄膜,用原子力显微镜(afm)、x射线衍射(xrd)仪、四探针测量仪、紫外-可见分光光度计等测试手段对沉积的薄

  https://www.alighting.cn/resource/20111020/126989.htm2011/10/20 14:02:02

25层商场的动力和照明系统图

本图为地上25层,地下2层,1~4层为商场。总面积为5.9万平米。图纸包含总说明、强电系统图、弱电系统图、总配电室系统图、商业系统图、通风控制箱系统图等。

  https://www.alighting.cn/resource/2008314/V416.htm2008/3/14 13:32:32

未来5年,你不可不知的25个设计趋势

全球最好的设计公司创意总监和其他几位设计师一起,给出了关于未来设计界的 25 个设计趋势。

  https://www.alighting.cn/resource/20150818/131875.htm2015/8/18 14:28:41

牺牲ni退火对硅衬底gan基发光二极管P型接触影响的研究

本文通过在硅衬底发光二极管(led)薄膜p-gan表面蒸发不同厚度的ni覆盖层,将其在n2:o2=4:1的气氛中、400℃—750℃的温度范围内进行退火,在去掉薄膜表面ni覆盖层之

  https://www.alighting.cn/2013/8/28 14:38:01

利用氩气改善P型gan led的性能

虽然gan leds的发展相当成功,但是使用有机金属化学气相沉积(mocvd)制程却让它们的P型掺杂

  https://www.alighting.cn/resource/20100712/127976.htm2010/7/12 18:09:51

dialux evo5.1入门教程第25集建立灯光场景

附件为《dialux evo5.1入门教程第25集建立灯光场景》视频,欢迎大家下载学习!

  https://www.alighting.cn/resource/20151021/133540.htm2015/10/21 10:35:14

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