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过渡层对ge衬底gaas外延层晶体质量的影响

利用低压金属有机化学汽相淀积(MOCVD)设备在ge衬底上生长gaas外延层。通过改变gaas过渡层的生长温度对gaas外延层进行了表征,利用扫描电镜(sem)和x射线衍射仪研

  https://www.alighting.cn/2013/5/8 14:41:44

宽禁带半导体sic和zno的外延生长及其掺杂的研究

作为第三代宽禁带半导体材料,sic和zno由于其自身优异的性能一直是人们研究的热点。sic具有高的迁移率、优异的热稳定性和化学稳定性,在高频、大功率、耐高温、抗辐射等电子器件方面有

  https://www.alighting.cn/resource/20130427/125659.htm2013/4/27 15:02:15

MOCVD外延al_2o_3基algan/gan超晶格的结构和光学特性

通过x射线衍射分析、透射电镜观察、红外透射光谱分析、紫外-可见吸收光谱分析和光致发光试验,研究了用金属有机物化学汽相沉积(MOCVD)的方法,在带有gan缓冲层的蓝宝石(al2o

  https://www.alighting.cn/resource/20130423/125683.htm2013/4/23 10:59:17

MOCVD法生长ga、p掺杂的zno薄膜

采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石衬底上制备ga、p掺杂的zno薄膜,分别采用x射线衍射、扫描电子显微镜、霍尔效应测试、光致发光谱对样品进行表征。通过ga、p掺杂分别得到n、p型z

  https://www.alighting.cn/2013/4/19 13:20:29

低压MOCVD生长参量对ⅱ型inas gasb超晶格材料表面形貌的影响

采用自制低压金属有机源化学气相沉积设备,在(100)面gasb单晶衬底上生长了ⅱ型inas/gasb超晶格材料.利用双晶x射线衍射、光学显微镜、原子力显微镜和光致发光谱等分析手段对

  https://www.alighting.cn/resource/20130418/125702.htm2013/4/18 14:00:59

图形蓝宝石衬底gan基发光二极管的研制

采用抗刻蚀性光刻胶作为掩膜,并利用光刻技术制作周期性结构,进行icp干法刻蚀c面(0001)蓝宝石制作图形蓝宝石衬底(pss);然后,在pss上进行MOCVD制作gan基发光二极

  https://www.alighting.cn/resource/20130411/125742.htm2013/4/11 11:59:01

p层厚度对si基gan垂直结构led出光的影响

利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在si衬底上生长了一系列具有不同p层厚度d的ingan/gan蓝光led薄膜并制备成垂直结构发光二极管(vleds),研究了p层厚度即p

  https://www.alighting.cn/resource/20130403/125768.htm2013/4/3 10:40:48

led 外延芯片和外延工艺

led 工作原理可知,外延材料是led 的核心部分,事实上,led 的波长、亮度、正向电压等主要光电参数基本上取决于外延材料。

  https://www.alighting.cn/2013/3/22 13:51:32

激光处理的蓝宝石可增加hvpe gan厚度

日本和瑞士的研究人员已采用一种蓝宝石衬底激光方式使氢化物气相外延法(hvpe)生长的gan层厚度增加200μm左右。研究人员来自纳米奇精密珠宝公司、洛桑联邦理工学院(epfl)、纳

  https://www.alighting.cn/2013/3/12 10:06:21

MOCVD设备气体输运关键技术的研究

MOCVD(metal organic chemical vapor deposition)是生长高质量半导体薄膜材料的技术,在led、半导体激光器、太阳能电池等多个领域都有应

  https://www.alighting.cn/resource/20130308/125923.htm2013/3/8 12:02:56

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