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过渡层对ge衬底gaas外延层晶体质量的影响

利用低压金属有机化学汽相淀积(mocvd)设备在ge衬底上生长gaas外延层。通过改变gaas过渡层的生长温度对gaas外延层进行了表征,利用扫描电镜(sem)和x射线衍射仪研

  https://www.alighting.cn/2013/5/8 14:41:44

基于双光栅结构下特征参量与gan基led光提取效率的动态关系

为解决光子在半导体和空气界面处的全反射导致的gan基发光二极管外量子效率低下的问题,基于双光栅gan基发光二极管芯片模型的基本构成,利用蒙特卡罗算法及波动方程理论进行模拟,分析了光

  https://www.alighting.cn/resource/20130506/125645.htm2013/5/6 15:26:29

条形叉指n阱和p衬底结的硅led设计及分析

采用0.35μm双栅标准cmos工艺最新设计和制备了叉指型siled发光器件。器件结构采用n阱和p衬底结,n阱为叉指结构,嵌入到p衬底中而结合成sipn结led。观察了siled发

  https://www.alighting.cn/2013/4/28 10:30:13

宽禁带半导体sic和zno的外延生长及其掺杂的研究

面有着巨大的应用潜力。然而,sic单晶价格昂贵,这就促使人们继续探讨在si衬底上异质外延sic薄

  https://www.alighting.cn/resource/20130427/125659.htm2013/4/27 15:02:15

mocvd外延al_2o_3基algan/gan超晶格的结构和光学特性

通过x射线衍射分析、透射电镜观察、红外透射光谱分析、紫外-可见吸收光谱分析和光致发光试验,研究了用金属有机物化学汽相沉积(mocvd)的方法,在带有gan缓冲层的蓝宝石(al2o3

  https://www.alighting.cn/resource/20130423/125683.htm2013/4/23 10:59:17

硅基gan蓝光led外延材料转移前后性能

利用外延片焊接技术,把si(111)衬底上生长的gan蓝光led外延材料压焊到新的si衬底上.在去除原si衬底和外延材料中缓冲层后,制备了垂直结构gan蓝光led.与外延材料未转

  https://www.alighting.cn/resource/20130422/125688.htm2013/4/22 13:10:12

mocvd法生长ga、p掺杂的zno薄膜

采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石衬底上制备ga、p掺杂的zno薄膜,分别采用x射线衍射、扫描电子显微镜、霍尔效应测试、光致发光谱对样品进行表征。通过ga、p掺杂分别得到n、p型z

  https://www.alighting.cn/2013/4/19 13:20:29

图形蓝宝石衬底gan基发光二极管的研制

管(led)外延片;最终,进行芯片制造和测

  https://www.alighting.cn/resource/20130411/125742.htm2013/4/11 11:59:01

led芯片知识大了解

一份《led芯片知识大了解》资料,分享给大家,欢迎下载附件查看详细内容。

  https://www.alighting.cn/2013/4/3 10:32:14

外延改善led芯片esd性能的方法

d芯片esd性能的影响机制,指出改善led芯片esd性能的关键方法,并介绍了外延改善led芯片esd性能的前沿研究情

  https://www.alighting.cn/2013/3/29 9:56:19

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