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三菱化学将量产白色led用GaN基板

三菱化学(mitsubishi chemical)计划藉由采用所谓的“液相法”的制造手法量产使用于照明用白色led的氮化镓(GaN)基板。

  https://www.alighting.cn/news/2011915/n658734484.htm2011/9/15 10:16:19

GaN类功率半导体能否成为新一代功率半导体的主角?(上)

GaN(氮化镓)作为可大幅降低电力损耗的新一代功率半导体备受关注。利用GaN功率元件的环境目前正在迅速形成。很多企业将在2011年下半年至2012年期间开始供货GaN类功率元

  https://www.alighting.cn/resource/20110914/127148.htm2011/9/14 11:52:00

三菱化学将量产白色led用GaN基板

据报导,为了让照明用led进一步普及,三菱化学评估GaN基板的适当价格应压低至现行的1/10,达每平方公分1,000日圆的水平。

  https://www.alighting.cn/news/20110914/115503.htm2011/9/14 9:51:05

三安光电GaN基薄膜led获美国专利证书

三安光电称,此发明可改善蓝宝石衬底上GaN基外延晶格质量及提高GaN基led取光效率,有效提升照明级白光led芯片亮度及技术水平。

  https://www.alighting.cn/news/20110914/115709.htm2011/9/14 9:20:32

美科学家研制新的氮化镓—锑合金,让光电催化水解制氢更快捷

科学家们在美国能源部的资助下,借用最先进的理论计算证明,在氮化镓(GaN)化合物中,2%的氮化镓由锑(sb)替代,这样结合而成的新合金将拥有适宜的电学特性。当其浸入水中并暴露于阳

  https://www.alighting.cn/news/20110913/100147.htm2011/9/13 10:42:07

氢化物气相外延自支撑GaN衬底制备技术研究进展

氢化物气相外延(hvpe)是制备氮化镓(GaN)衬底最有希望的方法.本文介绍了氮化镓材料的电学、光学性质及重要用途,总结了GaN体单晶及薄膜材料制备方法,描述了氢化物气相外延技

  https://www.alighting.cn/resource/20110913/127162.htm2011/9/13 9:04:57

利用三步法mocvd生长器件质量的GaN

在传统的二步mocvd外延生长的基础上 ,报道了一种在低压mocvd中用三步外延生长GaN材料的新方法 ,它在生长低温缓冲层前 ,用原子层的方法生长一层高质量的aln层来减少al

  https://www.alighting.cn/resource/20110909/127170.htm2011/9/9 9:12:43

蓝紫光inGaN多量子阱激光器

在(0001)蓝宝石衬底上外延生长了inGaN长周期多量子阱激光器结构.三轴晶x射线衍射测量显示该多量子阱结构质量优良.用该外延片制作了脊形波导GaN激光器,激光器的腔面为ga

  https://www.alighting.cn/resource/20110909/127172.htm2011/9/9 8:46:06

GaN类功率半导体能否成为新一代功率半导体的主角?(下)

GaN类功率半导体能否成为新一代功率半导体的主角?GaN类功率元件的成本、电气特性以及周边技术方面存在的课题是如何解决的呢?

  https://www.alighting.cn/resource/20110906/127189.htm2011/9/6 17:59:41

湿法腐蚀制备蓝宝石图形衬底的研究

利用湿法腐蚀方法,制备出图形化蓝宝石衬底(pss)。在相同的腐蚀时间下,研究腐蚀液温度对腐蚀蓝宝石表面形貌和外延后GaN材料的影响。扫描电镜(sem)测试结果表明:随着腐蚀液温

  https://www.alighting.cn/resource/20110906/127192.htm2011/9/6 13:52:00

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