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led行业未来3年硅基 GaN专利战将全面打响

硅基GaN衬底面临一些技术挑战。GaN和硅之间的巨大晶格失配导致了外延层的缺陷密度太高。而且两者之间的巨大热膨胀系数会导致它在从生长温度冷却至室温时产生大的拉伸应力,这会引起薄

  https://www.alighting.cn/news/20140509/87721.htm2014/5/9 10:19:47

传三菱化学10月量产led用GaN基板 耗电可降70%

据日经新闻23日报导,三菱化学(mitsubishi chemical)计划于今(2012)年10月开始量产使用于led的氮化镓(GaN)基板,因其电光转换率高(将电力转换成

  https://www.alighting.cn/news/20120223/114925.htm2012/2/23 9:48:18

大阪大学试制出利用GaN系半导体的红色led组件

大阪大学研究生院工学研究系材料生产科学专业教授藤原康文试制出了利用GaN系半导体的红色led组件。利用GaN系半导体的蓝色led组件及绿色led组件现已达到实用水平,但试制出红

  https://www.alighting.cn/news/20090707/120831.htm2009/7/7 0:00:00

缓冲层生长压力对mocvd GaN性能的影响

利用自制的在位监测系统,研究了用金属有机物化学气相外延法(mocvd)在蓝宝石衬底上生长GaN时,GaN低温缓冲层的生长压力对高温生长GaN外延层性能的影响规律.在位监测曲线及扫

  https://www.alighting.cn/resource/20130625/125485.htm2013/6/25 16:38:58

两步镀膜ti/al/ti/au的n型GaN欧姆接触研究

报道了一种可靠稳定且低接触电阻的n型GaN欧姆接触。首先在掺硅的n型GaN(3×1018cm-3)蒸镀ti(30nm)/al(500nm),然后在氮气环境530℃合金化3mi

  https://www.alighting.cn/resource/20130924/125296.htm2013/9/24 13:44:54

氢化物气相外延自支撑GaN衬底制备技术研究进展

氢化物气相外延(hvpe)是制备氮化镓(GaN)衬底最有希望的方法.本文介绍了氮化镓材料的电学、光学性质及重要用途,总结了GaN体单晶及薄膜材料制备方法,描述了氢化物气相外延技

  https://www.alighting.cn/resource/20110913/127162.htm2011/9/13 9:04:57

投资火热,GaN市场2013年起飞

自2011年以来,50-250伏特(v)负载点(point-of-load)及高阶功率元件的市场需求不断高涨,而目前新的GaN元件规格已能符合此一耐压区间,将借更优异的材料特

  https://www.alighting.cn/news/20120730/89039.htm2012/7/30 10:53:31

三菱化学将量产白色led用GaN基板

据报导,为了让照明用led进一步普及,三菱化学评估GaN基板的适当价格应压低至现行的1/10,达每平方公分1,000日圆的水平。

  https://www.alighting.cn/news/20110914/115503.htm2011/9/14 9:51:05

韩led厂加码GaN基板研发 抢led照明市场

韩国led厂商为了和中国业者竞争,首尔半导体(seoul semiconductor)和lg积极研发GaN基板,封测厂也有意用硅取代环氧树脂(epoxy),强化产品效能、延长使

  https://www.alighting.cn/news/20141020/97272.htm2014/10/20 12:04:16

GaN基蓝绿光led电应力老化分析

为了简化分析过程,进一步理清涉及到led芯粒本身的失效机理,本文对所取样的led芯粒仅进行简单的金胶固定。本文从外延角度出发,通过研究不同波段的GaN led在加速电流应力条件下

  https://www.alighting.cn/resource/20150320/123443.htm2015/3/20 11:09:20

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