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牺牲ni退火对硅衬底GaN基发光二极管p型接触影响

本文系统研究了ni覆盖层厚度及退火温度对硅衬底GaN基led薄膜p型欧姆接触的影响,在不需二次退火的情况下获得了高性能的p型欧姆接触层。

  https://www.alighting.cn/resource/2013/9/3/175434_16.htm2013/9/3 17:54:34

led半导体照明外延及芯片技术的最新进展

自上世纪90年代初中村修二发明高亮度蓝光led以来,基于GaN基蓝光led和黄色荧光粉组合发出白光方式的半导体照明技术在世界范围内得到了广泛关注和快速发展。迄今为止,商品化白

  https://www.alighting.cn/resource/20130830/125359.htm2013/8/30 17:48:20

牺牲ni退火对硅衬底GaN基发光二极管p型接触影响的研究

本文通过在硅衬底发光二极管(led)薄膜p-gan表面蒸发不同厚度的ni覆盖层,将其在n2:o2=4:1的气氛中、400℃—750℃的温度范围内进行退火,在去掉薄膜表面ni覆盖层之

  https://www.alighting.cn/2013/8/28 14:38:01

马代夜晚---------香格里拉岛

方的护理疗程,更能体验世外桃源般的独特享受:在世界顶级的spa馆,将印度洋的风光尽收眼底。在这里还能乘坐快艇前往GaN岛,还有脚踏车共游客骑乘前去探访周边5座由长17公里的公路相

  http://blog.alighting.cn/nsurprise/archive/2013/8/27/324643.html2013/8/27 15:47:57

硅基GaN led及光萃取技术实现高性价比照明

传统的氮化镓(GaN)led元件通常以蓝宝石或碳化硅(sic)为衬底,因为这两种材料与GaN的晶格匹配度较好,衬底常用尺寸为2"或4"。业界一直在致力于用供应更为丰富的硅晶圆(6

  https://www.alighting.cn/resource/20130823/125384.htm2013/8/23 13:58:42

新型通孔硅衬底GaN基led结构的电流扩展分析

为了降低si衬底GaN基led的开启电压及工作电压,本文提出了一种新型通孔结构发光二级管,并提出一种电路有限元模型,分析此结构发光二极管的注入电流在有源区内的分布情况。

  https://www.alighting.cn/2013/8/20 13:57:10

led蓝宝石基板与芯片背部减薄制程

目前在led制程中,蓝宝石基板虽然受到来自si与GaN基板的挑战,但是考虑到成本与良率,蓝宝石在近两年内仍然具有优势,可以预见接下来蓝宝石基板的发展方向是大尺寸与图案化(ps

  https://www.alighting.cn/resource/20130816/125399.htm2013/8/16 11:56:41

生产型GaNmocvd设备控制系统软件设计

对“用于GaN的生产型mocvd”设备控制系统的软/硬件结构、关键技术进行了描述,介绍了国外几种生产型GaNmocvd设备控制系统的特点;分析了mocvd设备控制技术的发展趋势。

  https://www.alighting.cn/resource/20130814/125402.htm2013/8/14 11:46:44

如何提高led发光效率的性价比

度降低缺陷密度。采用非极性衬底生长led,可作显示屏、电视、手机等背光源,没有取向性,不要外置扩散片。采用半极性、非极性蓝宝石和GaN衬底生长led的核心技术,已取得突破性进

  http://blog.alighting.cn/188279/archive/2013/8/7/322937.html2013/8/7 9:30:39

led灯的结构及发光原理-昌辉照明分享

于一般照明而言,人们更需要白色的光源。1998年发白光的led开发成功。这种led是将 GaN芯片和钇铝石榴石(yag)封装在一起做成。GaN芯片发蓝光(λp=465nm,wd=3

  http://blog.alighting.cn/chlhzm/archive/2013/8/5/322854.html2013/8/5 17:00:54

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